本論文主要對(duì)碳納米管纖維/環(huán)氧樹(shù)脂復(fù)合材料界面性能、耐壓性能、應(yīng)力松弛行為等進(jìn)行了研究。

隨著工業(yè)社會(huì)的不斷發(fā)展，環(huán)境污染和能源短缺成為21世紀(jì)首先需要解決的問(wèn)題。在眾多環(huán)境污染治理方法中，基于納米氧化物的光催化技術(shù)被認(rèn)為是未來(lái)環(huán)境凈化的主流技術(shù)。它具有節(jié)能、高效、綠色環(huán)保的優(yōu)勢(shì)，在去除空氣中有害物質(zhì)、廢水中有機(jī)污染物的光催化降解，以及除臭、殺菌和防霉等方面都有重要應(yīng)用前景。本書(shū)是依據(jù)作者所在課題組近10年

本書(shū)主要以金屬基底上氧化物納米結(jié)構(gòu)為研究對(duì)象，系統(tǒng)介紹了其合成、生長(zhǎng)動(dòng)力學(xué)及在光電、電化學(xué)能源和傳感器件等領(lǐng)域的應(yīng)用。主要內(nèi)容包括：利用簡(jiǎn)單的低溫液相法直接在金屬基底上生長(zhǎng)形貌豐富的氧化鋅納米結(jié)構(gòu)（納米針、納米線、鉛筆狀納米棒、納米片等），系統(tǒng)分析了其光致發(fā)光及場(chǎng)發(fā)射應(yīng)用；在金屬基底上合成氧化錫納米棒、氧化鐵納米管陣列

Ⅲ-Ⅴ氮化物屬于第三代半導(dǎo)體，具有獨(dú)特的性能及應(yīng)用領(lǐng)域，現(xiàn)在得以廣泛應(yīng)用的藍(lán)光LED就是以氮化鎵為基材制備出來(lái)的。本書(shū)內(nèi)容主要是Ⅲ-Ⅴ氮化物納米材料的研究，包括零維量子點(diǎn)的制備及性能，一維納米材料的制備及性能，納米陣列的制備及性能，以及對(duì)于Ⅲ-Ⅴ氮化物的理論模擬研究等。

陳家榮著的《硅納米晶發(fā)光增強(qiáng)研究》為學(xué)術(shù)著作，圍繞制備和表征硅納米晶的方法展開(kāi)研究。研究了硅納米晶電致發(fā)光的機(jī)理，得出其發(fā)光機(jī)理與小尺寸的硅納米晶有關(guān)；研究了界面效應(yīng)對(duì)硅納米晶發(fā)光的影響，為提高硅納米晶的發(fā)光強(qiáng)度提供了理論依據(jù)。然后從硅納米晶的發(fā)光機(jī)理出發(fā)，研究了場(chǎng)效應(yīng)和表面等離子體兩種方法如何提高硅納米晶的電致發(fā)光強(qiáng)

納米科技這個(gè)詞，近十年來(lái)不停地出現(xiàn)在我們的視線中。它代表的是一種技術(shù)革新。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，它泛指了一切將東西做很小的技術(shù)。生活中我們常見(jiàn)到一些自然的納米現(xiàn)象和利用納米技術(shù)生產(chǎn)的商品，但是對(duì)于其原理卻一點(diǎn)也不了解。本書(shū)以深入淺出的方式講述了這項(xiàng)科技的輪廓，以及在現(xiàn)在及未來(lái)的生活中，它將扮演的角色。納米究竟是什么米？種種疑問(wèn)，在

本書(shū)主要介紹了目前對(duì)納米熱障涂層的研究，針對(duì)幾種納米熱障涂層材料的結(jié)構(gòu)、物化性能、熱物性能進(jìn)行探索、研究，提出制備優(yōu)良納米熱障涂層所必備的相關(guān)制備工藝參數(shù)，包括實(shí)驗(yàn)方法、步驟、過(guò)程及實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析等。本書(shū)可作為從事納米熱障涂層研究的相關(guān)人員參考。

本書(shū)以氮化硼納米管復(fù)合材料為主題，重點(diǎn)針對(duì)氮化硼納米管對(duì)陶瓷基復(fù)合材料的強(qiáng)韌化進(jìn)行闡述。本書(shū)在詳細(xì)介紹氮化硼納米管的基本概念、性能和制備方法的同時(shí)，重點(diǎn)介紹氮化硼納米管陶瓷基復(fù)合材料的制備和性能等。全書(shū)系統(tǒng)地介紹了氮化硼納米管的性能和應(yīng)用（第1章）、氮化硼納米管的制備方法（第2章）、氮化硼那么管/氧化鋁復(fù)合材料（第3章

物質(zhì)在納米尺度下表現(xiàn)出的奇異現(xiàn)象和規(guī)律將改變相關(guān)理論的現(xiàn)有框架，使人們對(duì)物質(zhì)世的認(rèn)識(shí)進(jìn)入到嶄新的階段。用微納米加工方法對(duì)微納米材料、器件等進(jìn)行微結(jié)構(gòu)表征、操縱、控制、加工等，測(cè)量其力、熱、光、電、磁等低維物理特性，開(kāi)展相關(guān)基礎(chǔ)理論、方法研究和設(shè)備改造、研制，對(duì)納米科技的發(fā)展具有重要的意義。本書(shū)主要包括掃描電子顯微學(xué)、透

全書(shū)以“工藝、性能、應(yīng)用”為主線，全書(shū)共分12章，在內(nèi)容上共分為五個(gè)部分：第一部分從常規(guī)TiN薄膜入手，通過(guò)比較分析，介紹CrN基微納米復(fù)合膜的性能與研究進(jìn)展及應(yīng)用場(chǎng)合；第二部分為CrN膜、CrCrN納米多層復(fù)合膜、CrTiN復(fù)合膜、CrAlN復(fù)合膜、CrTiAlN復(fù)合膜的制備技術(shù)及其性能；第三部分為CrN基微納米復(fù)合