本書是一部論述微光像增強(qiáng)器測試技術(shù)的專著，是作者承擔(dān)國家科研項(xiàng)目的總結(jié)。 全書共9章，介紹微光像增強(qiáng)器測試技術(shù)理論和技術(shù)的基礎(chǔ)研究，包含熱電子面發(fā)射源、積分球漫反射均勻性、真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)的研究;系統(tǒng)闡述像增強(qiáng)器零部件測試技術(shù),包含微通道板MCP、熒光屏的參數(shù)測試研究;介紹了微光像增強(qiáng)器噪聲因子、噪聲特性測試的關(guān)鍵技術(shù)及

該書主要從強(qiáng)流電子束二極管所涉及的電子束源產(chǎn)生、傳輸和靶物理等三個(gè)方面進(jìn)行了介紹和分析，歸納了理論、模擬及實(shí)驗(yàn)研究的重要結(jié)論和方法。全書擬分為5章。其中，*章是強(qiáng)流電子束真空二極管簡介以及它在閃光X射線照相和核爆效應(yīng)模擬研究中的應(yīng)用。第二章是電子束的產(chǎn)生，詳細(xì)闡述了電子束產(chǎn)生階段所涉及的主要技術(shù)問題。第三章講述了強(qiáng)流電

《偏光片制造技術(shù)》全面、系統(tǒng)、深入地闡述了偏光片的發(fā)明、結(jié)構(gòu)、分類和應(yīng)用,偏振光學(xué)基礎(chǔ),偏光片原理,偏光片生產(chǎn)線的建設(shè),制造偏光片的原材料,偏光片的制造工藝,偏光片制造的質(zhì)量控制,偏光片下游產(chǎn)品的制造工藝和偏光片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展等內(nèi)容。