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點擊返回 當前位置:首頁 > 中圖法 【TN30 一般性問題】 分類索引
  • 半導體納米器件:物理、技術和應用
    • 半導體納米器件:物理、技術和應用
    • (英)大衛(wèi)·A.里奇(David A.Ritchie) 主編/2024-8-1/ 化學工業(yè)出版社/定價:¥158
    • 隨著先進的集成電路工藝節(jié)點不斷向納米級推進,對半導體納米器件的研究就顯得越發(fā)重要。本書詳細介紹了半導體納米器件的物理學原理、結構、制造工藝及應用等內容。開篇介紹了這一研究領域在過去幾十年的發(fā)展;前半部分重點介紹電子納米器件,包括準一維電子氣、強電子相關的測量、量子點的熱電特性、單電子源、量子電流標準、電子量子光學、噪聲測量、拓撲絕緣體納米帶、硅量子比特器件等;后半部分介紹光電子納米器件,包括半導體量子點單光子源的電學控制、量子點太陽能電池、量子點激光器、納米線激光器,以及氮化物單光子源等內容。本

    • ISBN:9787122452795
  • 光刻技術(原著第二版)
    • 光刻技術(原著第二版)
    • 林本堅 著/2024-8-1/ 化學工業(yè)出版社/定價:¥198
    • 本書詳細介紹了半導體芯片制造中的核心技術——光刻技術。主要內容包括驅動光學光刻的基本方程和參數(shù)的相關知識、曝光系統(tǒng)和成像基礎理論、光刻系統(tǒng)組件、工藝和優(yōu)化技術等;深入分析了光刻技術的發(fā)展前景,詳述了浸沒式光刻與極紫外(EUV)光刻。本書(第二版)特別融合了作者在研究、教學以及世界級大批量制造方面的獨特經驗,增加了關于接近式曝光方面的全新內容,同時更新并擴展了曝光系統(tǒng)、成像、曝光-離焦(E-D)法、硬件組件、工藝和優(yōu)化以及EUV光刻和浸沒式光刻等方面的資料。本書可供半導體光刻領域的工程師、管理者以

    • ISBN:9787122451514
  •  半導體器件基礎
    • 半導體器件基礎
    • 蔣玉龍/2024-6-1/ 清華大學出版社/定價:¥65
    • 本書聚焦硅基集成電路主要器件,即PN結、雙極型晶體管和場效應晶體管的基本結構、關鍵參數(shù)、直流特性、頻率特性、開關特性,側重對基本原理的討論,借助圖表對各種效應進行圖形化直觀展示,并詳細推導了各種公式。此外,還對小尺寸場效應晶體管的典型短溝道效應及其實際業(yè)界對策進行了較為詳細的闡述。本書適合集成電路或微電子相關專業(yè)本科生在學習完半導體物理知識后,進一步學習半導體器件工作原理之用;也可作為集成電路相關專業(yè)研究生的研究工作參考書,還可作為集成電路代工廠或電路設計從業(yè)人員的專業(yè)參考書。

    • ISBN:9787302661207
  • 半導體結構
    • 半導體結構
    • 張彤/2024-6-1/ 科學出版社/定價:¥59
    • 《半導體結構》主要內容總體可被劃分為兩個部分,分別是晶體的結構理論和晶體的缺陷理論。第一部分主要圍繞理想晶體(完美晶體)的主要性質與基本概念撰寫,加深讀者對晶體結構和關鍵性質的理解。第一部分擬通過五個章節(jié)分別介紹晶體的基本概念、晶體結構、對稱性、晶體結構描述方法及典型半導體晶體的重要物理、化學特性和這些特性與晶體微觀、宏觀性質間的聯(lián)系。第二部分則主要圍繞實際晶體中各種雜志與缺陷態(tài)對晶體性能的影響撰寫。第二部分擬分為四章撰寫,第六至八章分別重點介紹晶體中三個維度的缺陷類型,包括點缺陷、線缺陷和面缺

    • ISBN:9787030789778
  • 超晶格真隨機數(shù)產生技術
    • 超晶格真隨機數(shù)產生技術
    • 劉延飛[等]著/2024-5-1/ 國防工業(yè)出版社/定價:¥80
    • 本書首次利用半導體超晶格作為真隨機數(shù)發(fā)生器的混沌熵源,針對超晶格作為混沌熵源時所涉及的器件設計、混沌信號分析、隨機數(shù)提取等問題進行研究,從理論上對超晶格混沌產生自激振蕩的機理進行了研究,從實踐上實現(xiàn)了基于超晶格混沌熵源的隨機數(shù)發(fā)生器設計及產生真隨機數(shù)的評估。

    • ISBN:9787118133042
  •  功率半導體器件:封裝、測試和可靠性
    • 功率半導體器件:封裝、測試和可靠性
    • 鄧二平、黃永章、丁立健 編著/2024-5-1/ 化學工業(yè)出版社/定價:¥139
    • 本書講述了功率半導體器件的基本原理,涵蓋Si器件、SiC器件,GaN器件以及GaAs器件等;綜合分析和呈現(xiàn)了不同類型器件的封裝形式、工藝流程、材料參數(shù)、器件特性和技術難點等;將功率器件測試分為特性測試、極限能力測試、高溫可靠性測試、電應力可靠性測試和壽命測試等,并詳細介紹了測試標準、方法和原理,同步分析了測試設備和數(shù)據(jù)等;重點從測試標準、方法、理論和實際應用各方面,詳細介紹了高溫可靠性測試和封裝可靠性測試及其難點。本書結合企業(yè)實際需求,貼近工業(yè)實踐,知識內容新穎,可為工業(yè)界以及高校提供前沿數(shù)據(jù),

    • ISBN:9787122449344
  • 半導體材料
    • 半導體材料
    • 楊德仁/2024-5-1/ 電子工業(yè)出版社/定價:¥68
    • 半導體材料是材料、信息、新能源的交叉學科,是信息、新能源(半導體照明、太陽能光伏)等高科技產業(yè)的材料基礎。本書共15章,詳細介紹了半導體材料的基本概念、基本物理原理、制備原理和制備技術,重點介紹了半導體硅材料(包括高純多晶硅、區(qū)熔單晶硅、直拉單晶硅和硅薄膜半導體材料)的制備、結構和性質,闡述了化合物半導體(包括Ⅲ-Ⅴ族、Ⅱ-Ⅵ族、Ⅳ-Ⅳ族化合物半導體材料和氧化物半導體材料)的制備技術和基本性質,還闡述了有機半導體材料、半導體量子點(量子阱)等新型半導體材料的制備和性質。本書配套MOOC在線課程、

    • ISBN:9787121479731
  • 真空鍍膜技術與應用
    • 真空鍍膜技術與應用
    • 主編田燦鑫/2024-5-1/ 武漢理工大學出版社/定價:¥98
    • 本書內容涵蓋了真空鍍膜的關鍵技術和實際應用。在介紹真空鍍膜技術基礎理論及應用的基礎上,著重闡述了真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、等離子體增強化學氣相沉積的原理、工藝、應用等,緊接著介紹了薄膜厚度的測量、薄膜分析檢測技術等方面的內容,最后詳細闡述了工模具真空鍍膜生產線的具體工藝流程。本書敘述深入淺出,內容豐富而精煉,工程實踐性強,在強化理論的同時,重點突出了工程應用,賄很強的實用性。

    • ISBN:9787562969792
  • 鍺塵中鍺的二次富集及提取
    • 鍺塵中鍺的二次富集及提取
    • 劉麗霞著/2024-4-1/ 冶金工業(yè)出版社/定價:¥99.9
    • 本書詳細介紹了鍺塵中鍺的二次富集及提取,全書共分7章,內容包括緒論、實驗方案、鍺塵基礎物理化學性質及造塊、GeO2與氧化物間相互作用、鍺塵中鍺的二次富集研究、鍺的微波濕法提取研究、結論。

    • ISBN:9787502498436
  •  SMT基礎與工藝
    • SMT基礎與工藝
    • 李勇,夏明,陳驍康/2024-4-1/ 西南交通大學出版社/定價:¥30
    • SMT是一門包含元器件、材料、設備、工藝以及表面組裝電路基板設計與制造的綜合電子產品裝聯(lián)技術,是在傳統(tǒng)THT通孔插裝元器件裝聯(lián)技術基礎上發(fā)展起來的新一代微組裝技術。隨著半導體材料、元器件、電子與信息技術等相關技術的發(fā)展,使SMT組裝的電子產品更具有體積小、性能好、功能全、價位低的綜合優(yōu)勢,適應了數(shù)碼電子產品向短、小、輕、薄,多功能,高可靠,優(yōu)質量,低成本方向發(fā)展需求,成為世界電子整機組裝技術的主流。SMT作為新一代電子裝聯(lián)技術已廣泛地應用于各個領域的電子產品裝接中。近年來,電子信息、通信、互聯(lián)網

    • ISBN:9787564397784