金剛石作為第四代半導(dǎo)體材料，具有極其優(yōu)越的物理化學(xué)特性，在諸多高科技領(lǐng)域具有很好的應(yīng)用前景。金剛石拋光技術(shù)的研究不但突破了金剛石在高科技領(lǐng)域的應(yīng)用瓶頸，還帶動(dòng)了一些新工藝、新方法和新技術(shù)的發(fā)展。本書(shū)以作者多年的科研成果為基礎(chǔ)，匯集國(guó)內(nèi)外金剛石領(lǐng)域的**進(jìn)展，全面系統(tǒng)地對(duì)金剛石應(yīng)用和拋光技術(shù)的重要成果進(jìn)行了歸納和總結(jié)，內(nèi)容主要包括：金剛石的結(jié)構(gòu)及性能，金剛石膜的應(yīng)用，金剛石膜的制備技術(shù)，金剛石膜的去除機(jī)理與拋光理論，金剛石膜的機(jī)械拋光技術(shù)、摩擦化學(xué)拋光技術(shù)、化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)、光催化輔助拋光技術(shù)及特

整書(shū)內(nèi)容分為三篇，共15章。第一篇即第1～6章，介紹熱障涂層的破壞理論，其中第1章和第2章分別介紹熱力化耦合的理論框架和非線性有限元理論，第3～6章分別介紹熱障涂層界面氧化、CMAS腐蝕、沖蝕熱力化耦合的破壞理論與機(jī)制。第二篇即第7～12章，介紹熱障涂層性能與損傷的表征技術(shù)，第7～9章凝練熱障涂層基本力學(xué)性能、斷裂韌性、殘余應(yīng)力的各種先進(jìn)表征方法，第10～12章介紹裂紋、界面氧化、應(yīng)力應(yīng)變場(chǎng)等關(guān)鍵損傷參量的無(wú)損實(shí)時(shí)表征方法。第三篇即第13～15章，介紹熱障涂層性能評(píng)價(jià)技術(shù)，包括隔熱與強(qiáng)度綜合效果