《X射線衍射技術(shù)》較為系統(tǒng)地闡述了晶體學基礎(chǔ)，X射線與物質(zhì)作用發(fā)生散射與衍射的理論，單晶與多晶材料的X射線衍射原理與實驗方法，X射線衍射技術(shù)在材料微結(jié)構(gòu)分析方面的應(yīng)用等。書中反映了近年來X射線衍射領(lǐng)域的新成果，也介紹了非晶態(tài)材料、高分子聚合物材料、薄膜材料的衍射技術(shù)以及同步輻射技術(shù)的應(yīng)用。
《X射線衍射技術(shù)》可作為材料科學與工程類專業(yè)本科生的專業(yè)教材，也可供相關(guān)專業(yè)如物理、化學、生物、機械、核能工程等本科生和研究生作教學參考書，對從事X射線衍射工作的科研、測試人員也具有參考價值。
利用X射線衍射對材料進行分析，是人們認識物質(zhì)微觀結(jié)構(gòu)的重要途徑和權(quán)威方法之一。自1912年勞厄發(fā)現(xiàn)晶體X射線衍射以來，X射線已被迅速用于單晶材料與多晶材料的結(jié)構(gòu)分析之中。近年來，隨著認識的深入、設(shè)備的發(fā)展和分析技術(shù)的進步，X射線衍射技術(shù)被廣泛應(yīng)用于材料微結(jié)構(gòu)分析的各個方面，如物相分析，點陣參數(shù)測定，宏觀殘余應(yīng)力、微觀應(yīng)力與微晶尺寸的測定，織構(gòu)表征，高分子與非晶物質(zhì)的分析，薄膜、纖維等低維材料的分析等，為X射線衍射技術(shù)增添了更為強大的生命力，使其在材料科學、物理、化學、生物、制藥、信息等領(lǐng)域發(fā)揮著不可替代的作用。
本書從X射線衍射技術(shù)的應(yīng)用原理出發(fā)，介紹了X射線技術(shù)的發(fā)展歷程與X射線的基本性質(zhì)以及X射線衍射的晶體學基礎(chǔ)，詳細闡述了X射線與物質(zhì)作用發(fā)生散射的相關(guān)理論，進而推導(dǎo)出X射線衍射的理論強度，并基于作者及其合作者多年來在教學與研究工作中的認識與體會，分章節(jié)介紹了X射線衍射技術(shù)在實際材料分析過程中的應(yīng)用原理與實例，以期對讀者掌握X射線衍射技術(shù)的相關(guān)理論、從事相關(guān)的分析工作有所幫助。
全書共16章。第1章為緒論，介紹X射線衍射技術(shù)的發(fā)展歷程與應(yīng)用背景；第2章為X射線的基本性質(zhì)，包括X射線的波粒二象性、X射線的產(chǎn)生和譜學特性以及與物質(zhì)的相互作用等；第3章為晶體學基礎(chǔ)，為探討X射線在晶體中的衍射現(xiàn)象提供基本的晶體學知識；第4章為X射線的散射、干涉與衍射，為整個X射線衍射的核心理論基礎(chǔ)，詳細闡述了X射線與物質(zhì)發(fā)生相互作用時的散射強度與方向，推導(dǎo)出干涉方程、布拉格定律以及點陣消光規(guī)律；第5章為衍射線的強度分析，包括實際小晶體和多晶體衍射強度的分析以及實際實驗中影響衍射強度的因素；第6章為多晶體衍射信息的獲取方法，包括早期應(yīng)用的德拜法的分析原理與過程，后續(xù)發(fā)展并廣泛應(yīng)用的衍射儀的原理與構(gòu)造，多晶衍射的制樣和測試過程，以及衍射信息的處理與校正；第7章為單晶體衍射信息的獲取方法，闡述了勞厄法獲取單晶衍射信息的原理、過程與應(yīng)用，并結(jié)合技術(shù)的發(fā)展，介紹了用于單晶衍射分析的四圓單晶衍射儀以及二維面探測器；第8章為物相分析，介紹了定性相分析、定量相分析以及計算機進行全譜擬合和結(jié)構(gòu)精修的原理與過程；第9章為點陣常數(shù)的測定，闡明了點陣常數(shù)測定的基本原理，并討論了衍射儀法的誤差來源與消除方法；第10章為宏觀應(yīng)力的測定，分析了宏觀應(yīng)力的測試原理和衍射儀法測試的過程；第11章為微晶尺寸與微觀應(yīng)力的測定，包含測定微晶尺寸和微觀應(yīng)力的方法以及二者對衍射線貢獻的分離方法；第12章為織構(gòu)的測定，介紹了織構(gòu)的表征方式與測試過程；第13章為薄膜材料分析，介紹了針對薄膜樣品所發(fā)展出來的一系列測試方法；第14章為高分子材料分析，分析了X射線衍射技術(shù)在高分子材料結(jié)構(gòu)分析中的應(yīng)用；第15章為非晶材料分析，介紹了非晶材料X射線散射分析的原理與過程；第16章為同步輻射的應(yīng)用，以實際研究為例，介紹了同步輻射技術(shù)在材料分析中的應(yīng)用。
本書的撰寫得到了國內(nèi)材料科學許多專家學者的參與和支持，其中包括清華大學曾飛副教授、宋成副教授、劉雪靜博士。此外，須感謝王英華先生等編著的《X光衍射技術(shù)基礎(chǔ)》一書為本書的編著提供了諸多參考，同時也要感謝清華大學材料科學與工程研究院中心實驗室的陶琨先生、苗偉副教授為本書提供了不少的素材與數(shù)據(jù)，給予我們很大的支持。劉雪靜博士、博士生李凡等為本書的審稿和編輯做出重大貢獻。
本書介紹的部分研究成果是作者及其合作者在“973”計劃、“863”計劃、國家自然科學基金、教育部重大項目、清華大學教改項目的大力支持下完成的。作者在此謹向所有給予支持的學者、朋友致以誠摯的感謝。
由于對內(nèi)容的理解有限，書中難免有不妥之處，懇請讀者批評指正。
編者
2016年6月
潘峰，清華大學材料學院，國際薄膜學會副理事長、中國材料研究學會常務(wù)理事、中國晶體學會常務(wù)理事、中國真空學會常務(wù)理事、科技部“863”計劃新材料領(lǐng)域領(lǐng)域?qū)＜�、\"十三五”國家新材料領(lǐng)域發(fā)展戰(zhàn)略與規(guī)劃研究召集人，清華大學教授，博士生導(dǎo)師，是國家杰出青年科學基金獲得者，國家創(chuàng)新人才推進計劃重點領(lǐng)域創(chuàng)新團隊負責人。1996年晉升教授。曾任清華大學材料科學與工程研究院副院長、先進材料教育部重點實驗室主任、中國真空學會副理事長，現(xiàn)任國際薄膜學會副理事長、中國材料研究學會常務(wù)理事、中國晶體學會常務(wù)理事、中國真空學會常務(wù)理事、科技部“863”計劃新材料領(lǐng)域?qū)＜摇"十三五”國家新材料領(lǐng)域發(fā)展戰(zhàn)略與規(guī)劃研究召集人。長期在薄膜材料結(jié)構(gòu)與性能調(diào)控技術(shù)、聲表面波材料與器件、阻變存儲材料、磁性材料等方向開展科學研究，曾獲得2012年國家自然科學二等獎、2009年國家科技進步二等獎、2007年國家技術(shù)發(fā)明獎二等獎、1999年國家自然科學三等獎和8項省部級科研成果獎勵。授權(quán)國家發(fā)明專利20余項，國際專利2項。
第1章 緒論
參考文獻5
第2章 X射線的基本性質(zhì)
2.1X射線的本質(zhì)6
2.1.1X射線的波動性7
2.1.2X射線的粒子性8
2.1.3X射線的一般性質(zhì)8
2.2X射線的產(chǎn)生9
2.2.1X射線管10
2.2.2X射線儀12
2.3X射線譜13
2.3.1連續(xù)X射線譜13
2.3.2特征X射線譜15
2.4X射線與物質(zhì)的相互作用18
2.4.1X射線的吸收19
2.4.2X射線的減弱規(guī)律20
2.4.3吸收限的應(yīng)用22
2.5X射線的探測與防護24
2.5.1X射線的探測24
2.5.2X射線的防護25
思考與練習題25
參考文獻26
第3章 晶體學基礎(chǔ)
3.1晶體結(jié)構(gòu)與空間點陣27
3.1.1晶體結(jié)構(gòu)概述27
3.1.2空間點陣28
3.1.3陣矢30
3.1.4陣胞31
3.1.5空間點陣的種類32
3.1.6晶胞與晶體結(jié)構(gòu)35
3.2晶面和晶向指數(shù)37
3.2.1陣胞中的點37
3.2.2陣胞內(nèi)的直線38
3.2.3陣胞中的平面39
3.2.4晶胞內(nèi)的等價點、晶向和晶面40
3.2.5六方晶系中的晶面指數(shù)40
3.2.6晶面間距43
3.3晶體中的對稱操作與對稱元素43
3.3.1宏觀對稱操作與對稱元素44
3.3.2微觀對稱操作與對稱元素48
3.4點群與空間群51
3.4.1點群的概念51
3.4.2點群符號52
3.4.3空間群的概念與符號56
3.4.4空間群圖表簡介57
3.5晶體的投影58
3.5.1球面投影59
3.5.2極射投影60
3.5.3吳氏網(wǎng)與標準投影61
3.6倒易點陣70
3.6.1倒易點陣的概念70
3.6.2倒易點陣與正點陣之間的倒易關(guān)系72
3.6.3利用倒易矢量計算晶面間距與晶面夾角75
3.6.4晶帶與倒易面77
思考與練習題79
參考文獻82
第4章 X射線的散射、干涉與衍射
4.1單個電子對X射線的散射83
4.1.1相干散射83
4.1.2非相干散射87
4.2散射線的干涉88
4.2.1相位差與散射矢量88
4.2.2合成振幅與強度89
4.3單個原子對X射線的散射92
4.3.1單電子原子的散射93
4.3.2多電子原子的散射94
4.4原子群體的散射97
4.4.1散射振幅與強度97
4.4.2多原子氣體與“粉塵”的散射98
4.5晶體的衍射101
4.5.1晶胞對X射線的散射102
4.5.2小晶體的衍射103
4.6X射線的衍射方向106
4.6.1干涉方程107
4.6.2布拉格定律107
4.6.3厄瓦爾德圖解109
4.7結(jié)構(gòu)因子與消光條件111
4.7.1點陣消光與結(jié)構(gòu)消光111
4.7.2點陣消光條件112
4.7.3結(jié)構(gòu)消光條件113
4.7.4加權(quán)倒易點陣114
4.8獲得衍射線的方法概述116
4.8.1連續(xù)譜X射線117
4.8.2轉(zhuǎn)動晶體法117
4.8.3發(fā)散X射線束118
4.8.4粉末多晶法119
思考與練習題120
參考文獻121
第5章 衍射線的強度分析
5.1晶體的嵌鑲塊結(jié)構(gòu)122
5.2實際小晶體的衍射積分強度123
5.3多晶體的衍射線強度126
5.4影響衍射強度的因素128
5.4.1洛倫茲因子128
5.4.2吸收因子128
5.4.3多重因子132
5.4.4溫度因子133
5.4.5晶體結(jié)構(gòu)的影響134
5.4.6消光的影響135
5.4.7粉末多晶法的積分強度與相對強度136
5.5衍射強度的計算實例137
5.5.1列表計算衍射線的相對強度137
5.5.2利用計算機計算衍射線的相對強度138
思考與練習題141
參考文獻141
第6章 多晶體衍射信息的獲取方法
6.1德拜法142
6.1.1德拜法原理142
6.1.2德拜相機144
6.1.3德拜照片的計算與標定145
6.1.4其他照相方法148
6.2衍射儀法150
6.2.1測角儀151
6.2.2探測器153
6.2.3控制和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)158
6.2.4晶體單色器160
6.2.5衍射儀161
6.3衍射圖樣的獲得164
6.3.1試樣制備要求164
6.3.2衍射全圖的獲得165
6.3.3單峰測試166
6.4衍射信息的獲取167
6.4.1衍射線的線位167
6.4.2衍射線的強度169
6.4.3衍射線的寬度170
6.5衍射線的線形分析172
6.5.1實測線形與真實線形172
6.5.2Kα雙線的分離173
6.5.3吸收、溫度和角因子的校正178
6.5.4儀器因數(shù)的校正180
思考與練習題186
參考文獻187
第7章 單晶體衍射信息的獲取方法
7.1勞厄法188
7.1.1勞厄法照相188
7.1.2勞厄照片的特征190
7.2勞厄法的應(yīng)用191
7.2.1單晶取向的測定191
7.2.2透射勞厄法測定單晶取向193
7.2.3背射勞厄法測定單晶取向195
7.2.4單晶體的定向切割198
7.2.5塑性變形的研究200
7.3四圓單晶衍射儀法203
7.3.1四圓單晶衍射儀簡介203
7.3.2四圓單晶衍射儀的晶體結(jié)構(gòu)分析過程205
7.3.3四圓單晶衍射儀的衍射幾何205
7.3.4衍射幾何轉(zhuǎn)換矩陣207
7.4二維面探測器210
思考與練習題212
參考文獻212
第8章 物相分析
8.1定性相分析213
8.1.1PDF卡片214
8.1.2PDF檢索215
8.1.3定性相分析方法217
8.2定量相分析221
8.2.1外標法222
8.2.2內(nèi)標法223
8.2.3自標法225
8.2.4其他方法舉例229
8.3衍射全譜擬合法與Rietveld結(jié)構(gòu)精修229
8.3.1全譜擬合的原理230
8.3.2Rietveld方法中的擬合函數(shù)232
8.3.3Rietveld結(jié)構(gòu)精修步驟234
8.3.4Rietveld定量相分析方法235
思考與練習題237
參考文獻237
第9章 點陣常數(shù)的精確測定
9.1基本原理238
9.2衍射儀法的主要誤差240
9.2.1測角儀引起的誤差240
9.2.2試樣引起的誤差242
9.2.3其他誤差243
9.3外推法消除系統(tǒng)誤差244
9.3.1外推法原理244
9.3.2外推函數(shù)的選擇245
9.3.3外推判據(jù)246
9.3.4柯亨最小二乘法248
思考與練習題249
參考文獻249
第10章 宏觀應(yīng)力的測定
10.1基本原理250
10.1.1應(yīng)力-應(yīng)變關(guān)系250
10.1.2X射線衍射方法測定應(yīng)力的原理252
10.1.3表面應(yīng)力狀態(tài)的確定254
10.1.4用X射線衍射方法測定應(yīng)力的特點254
10.2衍射儀法測定宏觀應(yīng)力256
10.2.1基本方法257
10.2.2半聚焦法測應(yīng)力258
10.2.3平行光束法測應(yīng)力258
10.2.4邊傾斜法測應(yīng)力259
10.2.5應(yīng)力測試實例260
思考與練習題261
參考文獻261
第11章 微晶尺寸與微觀應(yīng)力的測定
11.1微晶尺寸的測定262
11.1.1微晶引起的寬化效應(yīng)262
11.1.2微晶尺寸的計算263
11.1.3微晶尺寸的確定264
11.2微觀應(yīng)力的測定266
11.2.1微觀應(yīng)力的倒易空間描述267
11.2.2微觀應(yīng)力的計算268
11.2.3微觀應(yīng)力的測定實例269
11.3微晶寬化和微觀應(yīng)力寬化的分離269
11.3.1近似函數(shù)法270
11.3.2傅里葉分析法272
11.3.3方差分解法277
思考與練習題278
參考文獻278
第12章 織構(gòu)的測定
12.1織構(gòu)及其表示方法279
12.1.1織構(gòu)與織構(gòu)的分類279
12.1.2織構(gòu)的表示方法281
12.2正極圖的獲得286
12.2.1照相法測正極圖286
12.2.2衍射儀法測正極圖289
12.3反極圖的獲得與分析297
12.3.1反極圖的獲得297
12.3.2反極圖數(shù)據(jù)的歸一化處理300
12.3.3各向異性的計算303
12.4極分布圖的測定305
12.4.1極分布圖305
12.4.2極分布圖的測定305
12.4.3回擺曲線的測定307
思考與練習題307
參考文獻308
第13章 薄膜材料分析
13.1概述309
13.2薄膜分析中的常用X射線方法310
13.2.1常規(guī)粉末衍射法310
13.2.2掠入射X射線衍射310
13.2.3小角X射線散射312
13.2.4雙晶衍射儀313
13.3掠入射X射線衍射313
13.3.1掠入射X射線衍射全反射314
13.3.2多層膜結(jié)構(gòu)對X射線的反射317
13.3.3薄膜性質(zhì)對X射線反射率的影響318
13.3.4X射線反射測定薄膜厚度321
13.4薄膜生長取向的測定322
13.4.1Φ掃描322
13.4.2薄膜材料中極圖的測定323
思考與練習題324
參考文獻325
第14章 高分子材料分析
14.1高分子材料概述326
14.1.1高分子晶體的特點326
14.1.2高分子鏈段的組成及其堆砌結(jié)構(gòu)328
14.1.3高分子聚合物晶體結(jié)構(gòu)模型329
14.2高分子聚合物結(jié)晶度的測定331
14.2.1基本原理331
14.2.2作圖法331
14.2.3Ruland法333
14.2.4擬合分峰法335
14.2.5回歸線法337
14.3高分子材料的小角X射線散射338
14.3.1基本原理339
14.3.2小角散射強度公式340
14.3.3小角散射的實驗技術(shù)與方法348
14.3.4Guinier作圖法352
思考與練習題353
參考文獻353
第15章 非晶材料分析
15.1非晶態(tài)及其結(jié)構(gòu)描述354
15.1.1非晶態(tài)354
15.1.2徑向分布函數(shù)356
15.2單原子系統(tǒng)的徑向分布函數(shù)357
15.2.1原子徑向分布函數(shù)的表達式357
15.2.2液體鈉的徑向分布函數(shù)359
15.3多元非晶系統(tǒng)的徑向分布函數(shù)360
15.3.1徑向分布函數(shù)的有效電子密度表示法360
15.3.2多元系統(tǒng)的全徑向分布函數(shù)與偏徑向分布函數(shù)362
15.4徑向分布函數(shù)實驗數(shù)據(jù)的處理366
15.4.1實驗數(shù)據(jù)的獲得366
15.4.2實驗數(shù)據(jù)的處理367
15.4.3徑向分布函數(shù)的獲得370
15.5測試實例371
15.5.1GdFe系的徑向分布函數(shù)371
15.5.2炭黑的徑向分布函數(shù)372
思考與練習題374
參考文獻374
第16章 同步輻射的應(yīng)用
16.1同步輻射X射線源375
16.1.1同步輻射概述375
16.1.2同步輻射光源的發(fā)展過程377
16.1.3同步輻射裝置的現(xiàn)狀378
16.2X射線吸收精細結(jié)構(gòu)379
16.2.1XAFS基本原理379
16.2.2近邊譜(XANES)381
16.2.3擴展譜(EXAFS)384
思考與練習題386
參考文獻387
附錄
1.國際相對原子質(zhì)量表388
2.晶體結(jié)構(gòu)資料389
3.某些化合物和固溶體的晶體結(jié)構(gòu)392
4.某些元素的特征譜與吸收限波長393
5.鎢的特征L譜線394
6. Kα雙線分離度(θα2-θα1)395
7.質(zhì)量吸收系數(shù)和密度397
8.原子散射因子f399
9.原子散射因子在吸收限近旁的減小值Δf402
10.洛倫茲-偏振因子1+cos22θ/sin2θcosθ402
11.德拜-瓦洛溫度因子e-(Bsin2θ)/λ2405
12.米勒指數(shù)的二次式405
13.晶面間距與點陣參數(shù)的關(guān)系406
14.常用矢量關(guān)系與有關(guān)公式的證明407
15.高聚物結(jié)晶度計算公式反校正因子408
16.聚芳醚酮類聚合物(PAEKs)結(jié)晶度計算公式410
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