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半導(dǎo)體物理與器件(第四版)(英文版)
本書(shū)是微電子技術(shù)領(lǐng)域的基礎(chǔ)教程。全書(shū)涵蓋了量子力學(xué)、 固體物理、 半導(dǎo)體材料物理及半導(dǎo)體器件物理等內(nèi)容, 分成三部分, 共15章。*部分為半導(dǎo)體材料屬性, 主要討論固體晶格結(jié)構(gòu)、 量子力學(xué)、 固體量子理論、 平衡半導(dǎo)體、 輸運(yùn)現(xiàn)象、 半導(dǎo)體中的非平衡過(guò)剩載流子; 第二部分為半導(dǎo)體器件基礎(chǔ), 主要討論pn結(jié)、 pn結(jié)二極管、 金屬半導(dǎo)體和半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)、 金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管、 雙極晶體管、 結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管; 第三部分為專(zhuān)用半導(dǎo)體器件, 主要介紹光器件、 半導(dǎo)體微波器件和功率器件等。書(shū)中既講述了半導(dǎo)體基礎(chǔ)知識(shí), 也分析討論了小尺寸器件物理問(wèn)題, 具有一定的深度和廣度。另外, 全書(shū)各章難點(diǎn)之后均列有例題、 自測(cè)題, 每章末尾均安排有復(fù)習(xí)要點(diǎn)、 重要術(shù)語(yǔ)解釋及知識(shí)點(diǎn)。全書(shū)各章末尾列有習(xí)題和參考文獻(xiàn), 書(shū)后附有部分習(xí)題答案。
每章開(kāi)篇給出中文說(shuō)明,適合雙語(yǔ)教學(xué)。
前 言 宗旨與目標(biāo) 雙極型方案 第四版新內(nèi)容 緒論 半導(dǎo)體和集成電路
美國(guó)新墨西哥大學(xué)電氣與計(jì)算機(jī)工程系教授,于新墨西哥大學(xué)獲博士學(xué)位后,成為Hanscom空軍基地固態(tài)科學(xué)實(shí)驗(yàn)室電子工程師。1976年加入新墨西哥大學(xué)電氣與計(jì)算機(jī)工程系,從事半導(dǎo)體物理與器件課程和電路課程的教學(xué)工作。目前仍為該系的返聘教員。出版過(guò)Microelectronics Circuit Analysis and Design, Fourth Edition和An Introduction to Semiconductor Devices兩本教材。
第一部分 半導(dǎo)體材料屬性
第?1?章 固體晶格結(jié)構(gòu)1 1.0 預(yù)習(xí)1 1.1 半導(dǎo)體材料1 1.2 固體類(lèi)型2 1.3 空間晶格3 1.3.1 原胞和晶胞3 1.3.2 基本的晶體結(jié)構(gòu)4 1.3.3 晶面和密勒指數(shù)6 1.3.4 晶向9 1.4 金剛石結(jié)構(gòu)10 1.5 原子價(jià)鍵12 *1.6 固體中的缺陷和雜質(zhì)14 1.6.1 固體中的缺陷14 1.6.2 固體中的雜質(zhì)16 *1.7 半導(dǎo)體材料的生長(zhǎng)17 1.7.1 在熔融體中生長(zhǎng)17 1.7.2 外延生長(zhǎng)19 1.8 小結(jié)20 重要術(shù)語(yǔ)解釋20 知識(shí)點(diǎn)21 復(fù)習(xí)題21 習(xí)題21 參考文獻(xiàn)24 第?2?章 量子力學(xué)初步25 2.0 預(yù)習(xí)25 2.1 量子力學(xué)的基本原理25 2.1.1 能量量子化26 2.1.2 波粒二相性27 2.1.3 不確定原理30 2.2 薛定諤波動(dòng)方程31 2.2.1 波動(dòng)方程31 2.2.2 波函數(shù)的物理意義32 2.2.3 邊界條件33 2.3 薛定諤波動(dòng)方程的應(yīng)用34 2.3.1 自由空間中的電子35 2.3.2 無(wú)限深勢(shì)阱36 2.3.3 階躍勢(shì)函數(shù)39 2.3.4 勢(shì)壘和隧道效應(yīng)44 2.4 原子波動(dòng)理論的延伸46 2.4.1 單電子原子46 2.4.2 周期表50 2.5 小結(jié)51 重要術(shù)語(yǔ)解釋51 知識(shí)點(diǎn)52 復(fù)習(xí)題52 習(xí)題52 參考文獻(xiàn)57 第?3?章 固體量子理論初步58 3.0 預(yù)習(xí)58 3.1 允帶與禁帶58 3.1.1 能帶的形成59 3.1.2 克龍尼克-潘納模型63 3.1.3 k 空間能帶圖67 3.2 固體中電的傳導(dǎo)72 3.2.1 能帶和鍵模型72 3.2.2 漂移電流74 3.2.3 電子的有效質(zhì)量75 3.2.4 空穴的概念78 3.2.5 金屬、絕緣體和半導(dǎo)體80 3.3 三維擴(kuò)展83 3.3.1 硅和砷化鎵的 k 空間能帶圖83 3.3.2 有效質(zhì)量的補(bǔ)充概念85 3.4 狀態(tài)密度函數(shù)85 3.4.1 數(shù)學(xué)推導(dǎo)85 3.4.2 擴(kuò)展到半導(dǎo)體88 3.5 統(tǒng)計(jì)力學(xué)91 3.5.1 統(tǒng)計(jì)規(guī)律91 3.5.2 費(fèi)米-狄拉克概率函數(shù)91 3.5.3 分布函數(shù)和費(fèi)米能級(jí)93 3.6 小結(jié)98 重要術(shù)語(yǔ)解釋98 知識(shí)點(diǎn)99 復(fù)習(xí)題99 習(xí)題100 參考文獻(xiàn)104 第 4 章 平衡半導(dǎo)體106 4.0 預(yù)習(xí)106 4.1 半導(dǎo)體中的載流子106 4.1.1 電子和空穴的平衡分布107 4.1.2 n0方程和p0方程109 4.1.3 本征載流子濃度113 4.1.4 本征費(fèi)米能級(jí)位置116 4.2 摻雜原子與能級(jí)118 4.2.1 定性描述118 4.2.2 電離能120 4.2.3 III-V族半導(dǎo)體122 4.3 非本征半導(dǎo)體123 4.3.1 電子和空穴的平衡狀態(tài)分布123 4.3.2 n0和p0的乘積127 *4.3.3 費(fèi)米-狄拉克積分128 4.3.4 簡(jiǎn)并與非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體130 4.4 施主和受主的統(tǒng)計(jì)學(xué)分布131 4.4.1 概率函數(shù)131 4.4.2 完全電離與束縛態(tài)132 4.5 電中性狀態(tài)135 4.5.1 補(bǔ)償半導(dǎo)體135 4.5.2 平衡電子和空穴濃度136 4.6 費(fèi)米能級(jí)的位置141 4.6.1 數(shù)學(xué)推導(dǎo)142 4.6.2 EF隨摻雜濃度和溫度的變化144 4.6.3 費(fèi)米能級(jí)的應(yīng)用145 4.7 小結(jié)147 重要術(shù)語(yǔ)解釋148 知識(shí)點(diǎn)148 復(fù)習(xí)題149 習(xí)題149 參考文獻(xiàn)154 第 5 章 載流子輸運(yùn)現(xiàn)象156 5.0 預(yù)習(xí)156 5.1 載流子的漂移運(yùn)動(dòng)156 5.1.1 漂移電流密度156 5.1.2 遷移率159 5.1.3 電導(dǎo)率164 5.1.4 飽和速度169 5.2 載流子擴(kuò)散172 5.2.1 擴(kuò)散電流密度172 5.2.2 總電流密度175 5.3 雜質(zhì)梯度分布176 5.3.1 感生電場(chǎng)176 5.3.2 愛(ài)因斯坦關(guān)系178 *5.4 霍爾效應(yīng)180 5.5 小結(jié)183 重要術(shù)語(yǔ)解釋183 知識(shí)點(diǎn)184 復(fù)習(xí)題184 習(xí)題184 參考文獻(xiàn)191 第 6 章 半導(dǎo)體中的非平衡過(guò)剩載流子192 6.0 預(yù)習(xí)192 6.1 載流子的產(chǎn)生與復(fù)合193 6.1.1 平衡態(tài)半導(dǎo)體193 6.1.2 過(guò)剩載流子的產(chǎn)生與復(fù)合194 6.2 過(guò)剩載流子的性質(zhì)198 6.2.1 連續(xù)性方程198 6.2.2 與時(shí)間有關(guān)的擴(kuò)散方程199 6.3 雙極輸運(yùn)201 6.3.1 雙極輸運(yùn)方程的推導(dǎo)201 6.3.2 摻雜及小注入的約束條件203 6.3.3 雙極輸運(yùn)方程的應(yīng)用206 6.3.4 介電弛豫時(shí)間常數(shù)214 *6.3.5 海恩斯-肖克萊實(shí)驗(yàn)216 6.4 準(zhǔn)費(fèi)米能級(jí)219 *6.5 過(guò)剩載流子的壽命221 6.5.1 肖克萊-里德-霍爾復(fù)合理論221 6.5.2 非本征摻雜和小注入的約束 條件225 *6.6 表面效應(yīng)227 6.6.1 表面態(tài)227 6.6.2 表面復(fù)合速度229 6.7 小結(jié)231 重要術(shù)語(yǔ)解釋231 知識(shí)點(diǎn)232 復(fù)習(xí)題233 習(xí)題233 參考文獻(xiàn)240 第二部分 半導(dǎo)體器件基礎(chǔ) 第 7 章 pn結(jié)241 7.0 預(yù)習(xí)241 7.1 pn結(jié)的基本結(jié)構(gòu)241 7.2 零偏243 7.2.1 內(nèi)建電勢(shì)差243 7.2.2 電場(chǎng)強(qiáng)度246 7.2.3 空間電荷區(qū)寬度249 7.3 反偏251 7.3.1 空間電荷區(qū)寬度與電場(chǎng)251 7.3.2 勢(shì)壘電容(結(jié)電容)254 7.3.3 單邊突變結(jié)256 7.4 結(jié)擊穿258 *7.5 非均勻摻雜pn結(jié)262 7.5.1 線(xiàn)性緩變結(jié)263 7.5.2 超突變結(jié)265 7.6 小結(jié)267 重要術(shù)語(yǔ)解釋268 知識(shí)點(diǎn)268 復(fù)習(xí)題269 習(xí)題269 參考文獻(xiàn)275 第 8 章 pn結(jié)二極管276 8.0 預(yù)習(xí)276 8.1 pn結(jié)電流276 8.1.1 pn結(jié)內(nèi)電荷流動(dòng)的定性描述277 8.1.2 理想的電流-電壓關(guān)系278 8.1.3 邊界條件279 8.1.4 少數(shù)載流子分布283 8.1.5 理想pn結(jié)電流286 8.1.6 物理學(xué)小結(jié)290 8.1.7 溫度效應(yīng)292 8.1.8 短二極管293 8.2 產(chǎn)生-復(fù)合電流和高注入級(jí)別295 8.2.1 產(chǎn)生復(fù)合電流296 8.2.2 高級(jí)注入302 8.3 pn 結(jié)的小信號(hào)模型304 8.3.1 擴(kuò)散電阻305 8.3.2 小信號(hào)導(dǎo)納306 8.3.3 等效電路313 *8.4 電荷存儲(chǔ)與二極管瞬態(tài)314 8.4.1 關(guān)瞬態(tài)315 8.4.2 開(kāi)瞬態(tài)317 *8.5 隧道二極管318 8.6 小結(jié)321 重要術(shù)語(yǔ)解釋322 知識(shí)點(diǎn)322 復(fù)習(xí)題323 習(xí)題323 參考文獻(xiàn)330 第 9 章 金屬半導(dǎo)體和半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)331 9.0 預(yù)習(xí)331 9.1 肖特基勢(shì)壘二極管331 9.1.1 性質(zhì)上的特征332 9.1.2 理想結(jié)的特性334 9.1.3 影響肖特基勢(shì)壘高度的 非理想因素338 9.1.4 電流-電壓關(guān)系342 9.1.5 肖特基勢(shì)壘二極管與pn結(jié) 二極管的比較345 9.2 金屬-半導(dǎo)體的歐姆接觸349 9.2.1 理想非整流接觸勢(shì)壘349 9.2.2 隧道效應(yīng)351 9.2.3 比接觸電阻352 9.3 異質(zhì)結(jié)354 9.3.1 形成異質(zhì)結(jié)的材料354 9.3.2 能帶圖354 9.3.3 二維電子氣356 *9.3.4 靜電平衡態(tài)358 *9.3.5 電流-電壓特性363 9.4 小結(jié)363 重要術(shù)語(yǔ)解釋364 知識(shí)點(diǎn)364 復(fù)習(xí)題365 習(xí)題365 參考文獻(xiàn)370 第 10 章 金屬-氧化物-半導(dǎo)體 ?場(chǎng)效應(yīng)晶體管基礎(chǔ)371 10.0?預(yù)習(xí)371 10.1?雙端MOS結(jié)構(gòu)371 10.1.1 能帶圖372 10.1.2 耗盡層厚度376 10.1.3 面電荷密度380 10.1.4 功函數(shù)差382 10.1.5 平帶電壓385 10.1.6 閾值電壓388 10.2?電容-電壓特性394 10.2.1 理想C-V特性394 10.2.2 頻率特性399 10.2.3 固定柵氧化層電荷和 界面電荷效應(yīng)400 10.3?MOSFET基本工作原理403 10.3.1 MOSFET結(jié)構(gòu)403 10.3.2 電流-電壓關(guān)系概念404 *10.3.3 電流-電壓關(guān)系 數(shù)學(xué)推導(dǎo)410 *10.3.4 跨導(dǎo)418 10.3.5 襯底偏置效應(yīng)419 10.4?頻率限制特性422 10.4.1 小信號(hào)等效電路422 10.4.2 頻率限制因素和截止頻率425 *10.5?CMOS技術(shù)427 10.6?小結(jié)430 重要術(shù)語(yǔ)解釋431 知識(shí)點(diǎn)432 復(fù)習(xí)題432 習(xí)題433 參考文獻(xiàn)441 第 11 章 金屬-氧化物-半導(dǎo)體 ?場(chǎng)效應(yīng)晶體管:概念的深入443 11.0?預(yù)習(xí)443 11.1?非理想效應(yīng)443 11.1.1 亞閾值電導(dǎo)444 11.1.2 溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng)446 11.1.3 遷移率變化450 11.1.4 速度飽和452 11.1.5 彈道輸運(yùn)453 11.2?MOSFET按比例縮小理論455 11.2.1 恒定電場(chǎng)按比例縮小455 11.2.2 閾值電壓一級(jí)近似456 11.2.3 全部按比例縮小理論457 11.3?閾值電壓的修正457 11.3.1 短溝道效應(yīng)457 11.3.2 窄溝道效應(yīng)461 11.4?附加電學(xué)特性464 11.4.1 擊穿電壓464 *11.4.2 輕摻雜漏晶體管470 11.4.3 通過(guò)離子注入進(jìn)行閾值 調(diào)整472 *11.5?輻射和熱電子效應(yīng)475 11.5.1 輻射引入的氧化層電荷475 11.5.2 輻射引入的界面態(tài)478 11.5.3 熱電子充電效應(yīng)480 11.6?小結(jié)481 重要術(shù)語(yǔ)解釋481 知識(shí)點(diǎn)482 復(fù)習(xí)題482 習(xí)題483 參考文獻(xiàn)489 第 12 章 雙極晶體管491 12.0?預(yù)習(xí)491 12.1?雙極晶體管的工作原理491 12.1.1 基本工作原理493 12.1.2 晶體管電流的簡(jiǎn)化表達(dá)式495 12.1.3 工作模式498 12.1.4 雙極晶體管放大電路500 12.2?少子的分布501 12.2.1 正向有源模式502 12.2.2 其他工作模式508 12.3?低頻共基極電流增益509 12.3.1 有用的因素509 12.3.2 電流增益的數(shù)學(xué)表達(dá)式512 12.3.3 小結(jié)517 12.3.4 電流增益的計(jì)算517 12.4?非理想效應(yīng)522 12.4.1 基區(qū)寬度調(diào)制效應(yīng)522 12.4.2 大注入效應(yīng)524 12.4.3 發(fā)射區(qū)禁帶變窄526 12.4.4 電流集邊效應(yīng)528 *12.4.5 基區(qū)非均勻摻雜的影響530 12.4.6 擊穿電壓531 12.5?等效電路模型536 *12.5.1 Ebers-Moll模型537 12.5.2 Gummel-Poon模型540 12.5.3 H-P模型541 12.6?頻率上限545 12.6.1 延時(shí)因子545 12.6.2 晶體管截止頻率546 12.7?大信號(hào)開(kāi)關(guān)549 12.7.1 開(kāi)關(guān)特
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