《太陽(yáng)能電池的硅晶體生長(zhǎng)》的寫作目的是為了向讀者介紹應(yīng)用于太陽(yáng)能電池的各類硅晶體生長(zhǎng)機(jī)理、模擬、工藝及特性。本書首先論述了制備硅原料的冶金級(jí)硅方法、西門子法和冶金法,然后討論了生產(chǎn)單晶硅棒的切克勞斯基法和區(qū)熔法、生長(zhǎng)多晶硅鑄錠的定向凝固法、鑄造單晶硅技術(shù)以及多晶硅鑄錠的亞晶界問(wèn)題,再論述了可以替代硅片的帶硅和球形硅技術(shù),接著解釋了制備晶體硅薄膜太陽(yáng)能電池的液相外延法、氣相外延法、閃光燈退火、鋁誘導(dǎo)層交換,*后提供制備太陽(yáng)能級(jí)硅需要的熱化學(xué)數(shù)據(jù)庫(kù)和動(dòng)力學(xué)數(shù)據(jù)庫(kù)。《太陽(yáng)能電池的硅晶體生長(zhǎng)》可以作為一本參考書,適合物理系、材料系、化學(xué)系、光學(xué)系、電子工程系、動(dòng)力與能源系或其他相關(guān)專業(yè)的本科生、研究生和教師,學(xué)習(xí)研究太陽(yáng)能硅晶體生長(zhǎng)技術(shù)。本書也可以作為太陽(yáng)能研究機(jī)構(gòu)科學(xué)家或太陽(yáng)能企業(yè)工程師的參考資料,為研究、開(kāi)發(fā)、生產(chǎn)各種硅晶體提供幫助。
即使對(duì)于多晶硅硅片(multicrystalline Si wafer),其宏觀特性也可以在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中,通過(guò)控制其微觀結(jié)構(gòu)加以改變。
前言
21世紀(jì)的人類不但要面對(duì)日益嚴(yán)重的全球氣候變暖,還要試圖解決石化資源的逐漸耗竭問(wèn)題。在未來(lái)一個(gè)世紀(jì)中,大多數(shù)自然資源將被耗盡,特別是石油、天然氣和鈾礦將出現(xiàn)不可避免的短缺。如今,人們認(rèn)識(shí)到應(yīng)該加快研究開(kāi)發(fā)可再生能源技術(shù),并且大規(guī)模發(fā)展新能源產(chǎn)業(yè)。
太陽(yáng)能是一種終極自然資源。雖然30%的太陽(yáng)能(solar energy)被地球反射,我們還可以充分地利用70%的太陽(yáng)能。2000年全世界能源需求量約9 000百萬(wàn)噸石油當(dāng)量(million tonnes oil equivalent,MTOE),而可使用的太陽(yáng)能是其數(shù)千倍。即使在2050年,用太陽(yáng)能只供應(yīng)全世界能源需求的10%,我們也必須連續(xù)40年每年生產(chǎn)40GW的太陽(yáng)能電池(solar cell),這要求每年400 000噸的硅原料(silicon feedstock)。我們相信這是一個(gè)可以實(shí)現(xiàn)的目標(biāo),因?yàn)檫@相當(dāng)于將全世界2005年的硅原料產(chǎn)量增加12倍。為了實(shí)現(xiàn)在2050年太陽(yáng)能占全球能源使用量10%這個(gè)目標(biāo),我們需要發(fā)展數(shù)種關(guān)鍵材料,考慮各種材料的生命周期,建立清潔能源循環(huán)。在數(shù)種關(guān)鍵材料中,Si無(wú)疑是最重要的,因?yàn)楝F(xiàn)在90%的太陽(yáng)能電池都基于Si,而其發(fā)展趨勢(shì)將是大規(guī)模的。
為了推動(dòng)高轉(zhuǎn)換效率晶體硅太陽(yáng)能電池(crystalline silicon solar cell)的發(fā)展,日本東北大學(xué)(Tohoku University)的材料研究學(xué)院(Institute for Materials Research,IMR)分別在2004年和2005年組織了2次國(guó)內(nèi)研討會(huì),從材料科學(xué)(materials science)的角度探討太陽(yáng)能電池的硅晶體生長(zhǎng)。隨后,IMR和日本學(xué)術(shù)振興會(huì)(Japan Society for the Promotion of Science,JSPS)的晶體生長(zhǎng)科學(xué)技術(shù)(Science and Technology of Crystal Growth)第161號(hào)委員會(huì)在2006年10月2~3日共同組織了第一屆晶體硅太陽(yáng)能電池科學(xué)技術(shù)國(guó)際研討會(huì)(International Workshop on Science and Technology of Crystalline Si Solar Cells,CSSC)。這個(gè)國(guó)際研討會(huì)作為一個(gè)論壇,為大學(xué)、研究機(jī)構(gòu)和產(chǎn)業(yè)界的科學(xué)家和工程師提供了一個(gè)相聚的機(jī)會(huì),可以從材料科學(xué)的角度共同探討晶體硅太陽(yáng)能電池發(fā)展的最新成果和現(xiàn)有挑戰(zhàn)。CSSC-2于2007年12月7~9日在中國(guó)的廈門舉行,而CSSC-3于2009年6月3~5日在挪威的特隆赫姆(Trondheim)舉行。而且,IMR和JSPS第161號(hào)委員會(huì)于2008年5月21~24日在日本的仙臺(tái)(Sendai)的第4屆亞洲晶體生長(zhǎng)和晶體技術(shù)會(huì)議(4thAsian Conference on Crystal Growth and Crystal Technology,CGCT-4)上組織了太陽(yáng)能電池和清潔能源技術(shù)(Solar Cells and Clean Energy Technology)專題討論會(huì)。本書的多數(shù)章節(jié)是基于這些會(huì)議和論壇的學(xué)術(shù)討論。編者衷心感謝CSSC和CGCT-4所有參與者對(duì)本書的貢獻(xiàn)。
現(xiàn)在有數(shù)本介紹太陽(yáng)能電池總體方面的著作,但是其重點(diǎn)是器件物理學(xué)(device physics),而晶體生長(zhǎng)技術(shù)方面的描述較少。甚至可能存在一些誤解,認(rèn)為太陽(yáng)能電池的晶體生長(zhǎng)沒(méi)有進(jìn)一步的改進(jìn)空間。但是,這樣的觀點(diǎn)有欠妥當(dāng)。即使對(duì)于多晶硅硅片(multicrystalline Si wafer),其宏觀特性也可以在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中,通過(guò)控制其微觀結(jié)構(gòu)加以改變。本書提供的基礎(chǔ)知識(shí)應(yīng)該可以為太陽(yáng)能電池材料的新型晶體生長(zhǎng)技術(shù)的未來(lái)發(fā)展做出貢獻(xiàn)。
中島一雄
宇佐美徳隆
高揚(yáng),2002年上海交通大學(xué)應(yīng)用物理學(xué)學(xué)士,2004年美國(guó)光學(xué)排名前5的University of Central Florida物理學(xué)碩士,導(dǎo)師為互聯(lián)網(wǎng)光纖通訊用激光傳輸速度世界紀(jì)錄保持者;貒(guó)工作12年,主要供職于美資世界最大光纖通訊器件公司和美資太陽(yáng)能咨詢公司等單位,對(duì)各種新型太陽(yáng)能電池技術(shù)的發(fā)展都在實(shí)際工作中有深刻的理解,對(duì)太陽(yáng)能多晶硅/硅片/電池/組件/逆變器/支架/儲(chǔ)能的研發(fā)/生產(chǎn)/質(zhì)量/設(shè)備/輔材也有較全面的認(rèn)識(shí)。目前,獨(dú)立經(jīng)營(yíng)太陽(yáng)能咨詢外貿(mào)公司,主要服務(wù)于歐美亞洲的企業(yè)客戶,業(yè)績(jī)良好。
名詞縮寫表
參數(shù)符號(hào)表
1硅原料
1.1概論
1.1.1主要技術(shù)路線
1.1.2雜質(zhì)
1.2冶金級(jí)硅
1.3西門子法
1.4冶金法
1.4.1氧化去除硼
1.4.1.1鑄桶提純?nèi)墼?/p>
1.4.1.2熔渣特性
1.4.2與水蒸汽反應(yīng)去除硼
1.4.3真空處理去除磷
1.4.4凝固提純
1.4.5溶劑提純
1.4.6浸出去除雜質(zhì)
1.4.7電解/電化學(xué)純化
1.4.8沉淀去除夾雜
1.4.9過(guò)濾去除夾雜
參考文獻(xiàn)
2切克勞斯基法
2.1概論
2.2熱場(chǎng)設(shè)計(jì)
2.2.1功率和生長(zhǎng)速率
2.2.2界面形狀和熱應(yīng)力
2.2.3氬氣消耗和石墨降解
2.2.4產(chǎn)額提升
2.3連續(xù)加料
2.3.1數(shù)次加料
2.3.2鍍膜坩堝
2.3.3大尺寸和連續(xù)生長(zhǎng)
2.4改善晶體質(zhì)量
2.5小結(jié)
參考文獻(xiàn)
3區(qū)熔法
3.1概論
3.2原料棒
3.2.1西門子法和硅烷法
3.2.2切克勞斯基法
3.2.3顆粒狀原料
3.3區(qū)熔法的摻雜
3.4技術(shù)限制
3.5二次區(qū)熔法
3.6區(qū)熔法的潛力
3.7小結(jié)
參考文獻(xiàn)
4定向凝固法
4.1概論
4.2控制結(jié)晶過(guò)程
4.3晶體中的雜質(zhì)
4.4凝固的三維效應(yīng)
4.5小結(jié)
參考文獻(xiàn)
5鑄錠單晶硅
5.1概論
5.2小平面枝晶
5.3平行孿晶
5.4枝晶生長(zhǎng)理論模型
參考文獻(xiàn)
6亞晶界
6.1概論
6.2亞晶界的結(jié)構(gòu)分析
6.3亞晶界的電學(xué)特性
6.4亞晶界的產(chǎn)生機(jī)理
6.5小結(jié)
參考文獻(xiàn)
7帶硅生長(zhǎng)
7.1概論
7.2帶硅技術(shù)的各種類型
7.2.1第I類帶硅
7.2.1.1邊緣限制薄膜生長(zhǎng)
7.2.1.2線帶
7.2.2第II類帶硅
7.2.2.1襯底帶硅生長(zhǎng)
7.2.3技術(shù)比較
7.3材料特性和太陽(yáng)能電池工藝
7.3.1耐火材料
7.3.2帶硅材料特性
7.3.2.1邊緣限制薄膜生長(zhǎng)和線帶
7.3.2.2襯底帶硅生長(zhǎng)
7.3.3帶硅太陽(yáng)能電池
7.3.3.1帶硅的氫化
7.3.3.2太陽(yáng)能電池工藝
7.4小結(jié)
參考文獻(xiàn)
8球形硅
8.1概論
8.2過(guò)冷熔體的晶體生長(zhǎng)
8.3枝晶的分裂
8.4一步滴管法
8.5小結(jié)
參考文獻(xiàn)
9液相外延法
9.1概論
9.2生長(zhǎng)動(dòng)力學(xué)
9.3溶劑和襯底的優(yōu)化
9.3.1溶劑的選擇
9.3.2襯底表面的自生氧化物
9.4實(shí)驗(yàn)結(jié)果
9.4.1外延層厚度和生長(zhǎng)速率
9.4.2外延層的摻雜和電學(xué)特性
9.5多晶硅襯底上的生長(zhǎng)
9.5.1太陽(yáng)能電池特性
9.6低溫液相外延法
9.7異質(zhì)襯底液相外延法
9.8外延橫向過(guò)度生長(zhǎng)
9.9高生產(chǎn)速率液相外延法
9.10小結(jié)
參考文獻(xiàn)
10氣相外延法
10.1概論
10.2理論分析
10.2.1流體力學(xué)
10.2.2生長(zhǎng)動(dòng)力學(xué)
10.2.2.1氣體中氣流和襯底上氣流
10.2.2.2生長(zhǎng)速率
10.2.2.3邊界層模型
10.3實(shí)驗(yàn)方法
10.3.1SiH2Cl2/H2系統(tǒng)
10.3.2外延層的摻雜
10.3.2.1摻雜水平
10.3.2.2摻雜分布
10.4外延生長(zhǎng)設(shè)備
10.5小結(jié)
參考文獻(xiàn)
11閃光燈退火
11.1概論
11.2實(shí)驗(yàn)設(shè)備
11.3熱擴(kuò)散長(zhǎng)度
11.4相變
11.5輻照度控制
11.6制備太陽(yáng)能電池
11.7多晶硅薄膜的微結(jié)構(gòu)
11.8小結(jié)
參考文獻(xiàn)
12鋁誘導(dǎo)層交換
12.1概論
12.2總體技術(shù)
12.3動(dòng)力學(xué)分析
12.4結(jié)構(gòu)特性和電學(xué)特性
12.5滲透膜的影響
12.6理論模型
12.7光伏應(yīng)用
12.8小結(jié)
參考文獻(xiàn)
13熱化學(xué)數(shù)據(jù)庫(kù)和動(dòng)力學(xué)數(shù)據(jù)庫(kù)
13.1概論
13.2熱化學(xué)數(shù)據(jù)庫(kù)
13.2.1熱力學(xué)描述
13.2.1.1元素和化學(xué)計(jì)量化合物
13.2.1.2溶液
13.2.1.3溶解度
13.2.1.4平衡分布系數(shù)
13.2.1.5退縮性溶解度
13.2.2典型實(shí)例
13.3動(dòng)力學(xué)數(shù)據(jù)庫(kù)
13.3.1雜質(zhì)擴(kuò)散率
13.3.2典型實(shí)例
13.4應(yīng)用熱化學(xué)數(shù)據(jù)庫(kù)和動(dòng)力學(xué)數(shù)據(jù)庫(kù)
13.4.1溶解度和分布系數(shù)
13.4.2表面張力
13.4.3多晶硅中雜質(zhì)的晶界分凝
13.4.4確定潔凈區(qū)寬度
13.5小結(jié)
參考文獻(xiàn)
英漢索引
漢英索引