本書(shū)系統(tǒng)地介紹薄膜光學(xué)的基本理論和器件設(shè)計(jì)的基本方法，適當(dāng)?shù)亟榻B一些新設(shè)計(jì)方法、新器件設(shè)計(jì)、新工藝技術(shù)。 全書(shū)共7章，主要內(nèi)容包括：薄膜光學(xué)基礎(chǔ)，器件設(shè)計(jì)方法，薄膜制造基本方法，高質(zhì)量光學(xué)薄膜器件的工藝方法，光學(xué)薄膜材料，光學(xué)薄膜特性測(cè)試，功能薄膜及其應(yīng)用。
盧進(jìn)軍，西安工業(yè)大學(xué)光電學(xué)院教授，從事光學(xué)領(lǐng)域的教學(xué)、科研工作，主編教材《光學(xué)薄膜技術(shù)》。
第1章薄膜光學(xué)特性計(jì)算基礎(chǔ)
11引言
12單一界面的反射率和透射率
13單層介質(zhì)膜的反射率
131單層介質(zhì)膜與基底組合的等效光學(xué)導(dǎo)納
132單層介質(zhì)膜的光學(xué)特性
14多層介質(zhì)膜的反射率和透射率
15金屬薄膜的光學(xué)特性
16光學(xué)零件的反射率和透射率
17光學(xué)薄膜的色度表征與計(jì)算
171光學(xué)薄膜的透、反射率光譜與顏色
172CIE1931標(biāo)準(zhǔn)色度系統(tǒng)簡(jiǎn)介
173薄膜顏色的色度學(xué)表征
思考題與習(xí)題
第2章介質(zhì)膜系及其應(yīng)用
21減反射膜
211單層減反射膜
212雙層減反射膜
213多層減反射膜
214高折射率基底的減反射膜
215含吸收層的防眩光減反射膜
22高反射膜
221周期性多層膜堆的反射率
222（LH）S周期性多層膜堆的高反射帶
223高反射帶的展寬
224傾斜入射時(shí)的高反射帶
225金屬反射膜
23中性分束膜
231介質(zhì)中性分光鏡
232偏振中性分束棱鏡
233金屬中性分光鏡
24截止濾光片
241多層膜堆的通帶透射率
242通帶波紋的壓縮
243通帶的展寬和壓縮
244截止波長(zhǎng)和截止帶中心的透射率
245截止濾光片傾斜使用時(shí)的偏振效應(yīng)
246截止濾光片的應(yīng)用
25帶通濾光片
251法布里-珀羅濾光片特性
252全介質(zhì)法布里-珀羅濾光片
253誘導(dǎo)透射濾光片
254法布里-珀羅濾光片的最新應(yīng)用
255寬帶通濾光片
26偏振分束膜
261膠合棱鏡介質(zhì)偏振分光膜
262平板介質(zhì)偏振分光鏡
263金屬柵偏振分光鏡
27消偏振膜系
271單波長(zhǎng)消偏振
272受抑全反射寬波段消偏振分光鏡
273金屬-介質(zhì)組合膜堆寬波段消偏振
274消偏振截止濾光片
思考題與習(xí)題
第3章光學(xué)薄膜制造技術(shù)
31光學(xué)真空鍍膜機(jī)
32真空與物理氣相沉積
33真空獲得與檢測(cè)
331真空泵
332低溫冷凝泵
333PVD使用的高真空系統(tǒng)
334真空度的檢測(cè)
34熱蒸發(fā)
35濺射
351輝光放電濺射
352磁控濺射
353離子束濺射
354離子、靶材與濺射率
36離子鍍
37離子輔助鍍
38等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積
381PECVD過(guò)程的動(dòng)力學(xué)
382PECVD裝置
思考題與習(xí)題
第4章光學(xué)薄膜制造工藝
41光學(xué)薄膜器件的質(zhì)量要素
42影響膜層質(zhì)量的工藝要素
421影響薄膜器件質(zhì)量的工藝要素及作用機(jī)理
422提高膜層機(jī)械強(qiáng)度的工藝途徑
423控制膜層折射率的主要工藝途徑
424獲得致密膜層的方法
43獲得精確厚度的方法
431目視法
432極值法
433光電定值法
434任意膜厚的單波長(zhǎng)監(jiān)控
435石英晶振法
436寬光譜膜厚監(jiān)控
44獲得均勻膜層的方法
441影響膜層厚度均勻性的因素
442獲得均勻膜層厚度的途徑
思考題與習(xí)題
第5章薄膜材料及其性質(zhì)
51薄膜的微觀結(jié)構(gòu)與性質(zhì)
511薄膜結(jié)構(gòu)的材料學(xué)基礎(chǔ)
512薄膜的光學(xué)性質(zhì)
513薄膜的力學(xué)性質(zhì)
52常用光學(xué)薄膜材料
521金屬薄膜
522介質(zhì)薄膜
523特殊材料
思考題與習(xí)題
第6章光學(xué)薄膜特性測(cè)試與分析
61光學(xué)薄膜特性的檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)
611國(guó)標(biāo)（JB/T 6179—92）中規(guī)定的光學(xué)零件鍍膜的分類、符號(hào)及標(biāo)注
612國(guó)標(biāo)（JB/T 8226—1999）中規(guī)定的光學(xué)零件鍍膜檢測(cè)項(xiàng)目
613國(guó)標(biāo)（JB/T 8226—1999）中規(guī)定的光學(xué)零件鍍膜試驗(yàn)方法
614國(guó)標(biāo)（JB/T 8226—1999）中規(guī)定的光學(xué)零件鍍膜檢驗(yàn)規(guī)則
62薄膜透射率、反射率的測(cè)量
621光譜儀的基本原理
622薄膜透射率的測(cè)量
623薄膜反射率的測(cè)量
63薄膜光學(xué)常數(shù)和厚度的測(cè)量
631光度法確定薄膜的光學(xué)常數(shù)
632橢圓偏振法確定薄膜的光學(xué)常數(shù)
633薄膜厚度的測(cè)量
64薄膜吸收和散射的測(cè)量
641薄膜吸收損耗的測(cè)量
642薄膜散射損耗的測(cè)量
65薄膜激光損傷閾值的測(cè)量
651薄膜激光損傷的機(jī)理分析
652薄膜激光損傷閾值的測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)及方法
653薄膜抗激光損傷閾值測(cè)量中應(yīng)注意的幾個(gè)問(wèn)題
66薄膜非光學(xué)特性的檢測(cè)
661薄膜附著力的測(cè)量
662薄膜應(yīng)力的測(cè)量
663薄膜的環(huán)境試驗(yàn)
664薄膜結(jié)構(gòu)和化學(xué)成分檢測(cè)
思考題與習(xí)題
第7章功能薄膜及其應(yīng)用
71透明導(dǎo)電薄膜
711透明導(dǎo)電薄膜的分類
712透明導(dǎo)電薄膜的基本特性
713透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備
714透明導(dǎo)電氧化物薄膜的特性測(cè)試
715透明導(dǎo)電氧化物薄膜的應(yīng)用
72太陽(yáng)能薄膜
721太陽(yáng)能光熱轉(zhuǎn)換薄膜
722太陽(yáng)能光電轉(zhuǎn)換薄膜
73超硬薄膜材料
731金剛石薄膜
732類金剛石（DLC）薄膜
733立方氮化硼薄膜
734CNx薄膜
735其他硬質(zhì)薄膜
74相位膜
741屋脊棱鏡的偏振像差
742矯正偏振像差的相位膜
743屋脊棱鏡偏振像差的表征與檢測(cè)
思考題與習(xí)題
附錄A常見(jiàn)薄膜材料參數(shù)
參考文獻(xiàn)
書(shū)單推薦
