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納米成像導論 讀者對象:從事納米科技和基礎研究的科技工作者、相關專業(yè)的研究生以及制造與使用納米成像儀器的 讀者。
本書內(nèi)容由八章組成。第1章為概論。第2章論述了納米成像基礎,重點闡述納米成像中的一些基本概念,討論了納米成像的共同物理基礎、基本原理以及實現(xiàn)納米成像需要解決的基本問題等。第3~8章分別論述了三維結構、形貌、熒光、非標記光學、動態(tài)和光學功能等納米成像的原理、方法、系統(tǒng)和性能等。在三維結構納米成像中,重點介紹了電子顯微鏡和X射線顯微鏡,對三維結構納米成像進行了較為系統(tǒng)的分析。在形貌納米成像方面,論及掃描隧道顯微鏡、原子力顯微鏡、近場光學顯微鏡和掃描電子顯微鏡等。在熒光納米成像中,重點討論了突破衍射極限的方法和手段、實現(xiàn)特異性標記的材料和方法。在非標記光學納米成像一章重點討論了突破衍射極限和提高靈敏度的方法與手段,以及表面增強拉曼散射和相干反斯托克斯拉曼散射的有關問題。在動態(tài)納米成像方面,重點論述了同時實現(xiàn)時間和空間分辨的方法與手段。在光學功能納米成像一章,重點論述了在納米分辨下功能信息獲取的特點、方法和手段。
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