本書為電子、材料以及物理等領(lǐng)域的科學(xué)家和工程師更新納米結(jié)構(gòu)加工的新核心技術(shù)。主要內(nèi)容包括亞25nm圖形的光刻技術(shù)，納米尺度精度的沉積技術(shù)，納米尺度的圖形刻蝕技術(shù)等。本書的亮點(diǎn)不是為了延展微電子制造工藝，而是更多聚焦于可在納機(jī)電系統(tǒng)、生物傳感器、納米材料、光子晶體以及其它新型器件結(jié)構(gòu)等革命性技術(shù)領(lǐng)域應(yīng)用的圖形加工技術(shù)。