《極紫外光刻》是一本論述極紫外光刻技術(shù)的最新專(zhuān)著。本書(shū)全面而又精煉地介紹了極紫外光刻技術(shù)的各個(gè)方面及其發(fā)展歷程，內(nèi)容不僅涵蓋極紫外光源、極紫外光刻曝光系統(tǒng)、極紫外掩模版、極紫外光刻膠、極紫外計(jì)算光刻等方面，而且還介紹了極紫外光刻生態(tài)系統(tǒng)的其他方面，如極紫外光刻工藝特點(diǎn)和工藝控制、極紫外光刻量測(cè)的特殊要求，以及對(duì)技術(shù)發(fā)展路徑有著重要影響的極紫外光刻的成本分析等內(nèi)容。最后本書(shū)還討論了滿(mǎn)足未來(lái)的芯片工藝節(jié)點(diǎn)要求的極紫外光刻技術(shù)發(fā)展方向。