"本書的內(nèi)容主要聚焦于二次電子發(fā)射的理論模型和相關應用方面，在部分章節(jié)列舉了幾個典型案例展開討論。本書的內(nèi)容涵蓋了二次電子的發(fā)射理論模型、測量、數(shù)據(jù)結(jié)果、表面工藝、介質(zhì)帶電分析以及典型應用場景介紹。內(nèi)容涉及粒子物理理論、仿真算法、磁流體力學、表面工藝、表面表征等多領域。
本書共分為六章，其中，第一章為緒論，介紹了二次電子發(fā)射和與此相關的介質(zhì)帶電概念和現(xiàn)狀。第二章中主要介紹了四種主要的二次電子發(fā)射模型，以及分別針對導電金屬和導電不良體的介質(zhì)研制的測試平臺，除此之外，還列出了部分典型金屬和介質(zhì)材料的二次電子發(fā)射數(shù)據(jù)。本書的第三部分介紹了常用的二次電子發(fā)射表面調(diào)控技術，列舉了幾種用于抑制二次電子發(fā)射的表面陷阱結(jié)構(gòu)和用于表面調(diào)控的材料工藝。第四部分介紹了電子轟擊表面的帶電效應和二次電子發(fā)射在帶電狀態(tài)下的動態(tài)特性。第五部分簡要敘述了電子轟擊對材料的影響。第六部分講述了二次電子發(fā)射在微波部件微放電和電子顯微成像領域的應用，并展開了一些分析。
本書面向物理學、物理電子學和計算物理學等專業(yè)的本科生或研究生，以及從事等離子體、微波大功率放電和表面微分析等領域的研究人員，除此之外，本書提供了大量的材料基礎數(shù)據(jù)，還可為相關工程設計領域的工程師提供參考和借鑒。
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