本書改編自東芝株式會社內(nèi)部培訓用書。為了讓讀者理解以硅(Si)為中心的半導體元器件,筆者用了大量的圖解方式進行說明。理解半導體元器件原理有效的圖,其實是能帶圖。全書共7章,包括半導體以及MOS晶體管的簡單說明、半導體的基礎物理、PN結(jié)二極管、雙極性晶體管、MOS電容器、MOS晶體管和超大規(guī)模集成電路器件。在本書后,附加了常量表、室溫下(300K)的Si基本常量、MOS晶體管、麥克斯韋玻爾茲曼分布函數(shù)、關于電子密度n以及空穴密度p的公式、質(zhì)量作用定律、PN結(jié)的耗盡層寬度、載流子的產(chǎn)生與復合、小信號下的共發(fā)射極電路的電流放大倍數(shù)、帶隙變窄以及少數(shù)載流子遷移率、閾值電壓Vth、關于漏極電流ID飽和的解釋。
本書主要面向具有高中數(shù)理基礎的半導體初學者,也可供半導體、芯片從業(yè)者閱讀。
東芝株式會社指定內(nèi)部培訓用書
日本著名半導體專家執(zhí)行直之從業(yè)40多年積淀
38道習題 159張圖表 163個公式 168個知識點
本書附有:常量表/室溫下(300K)的Si基本常量/從基本專利到實用化花了32年的MOS晶體管/麥克斯韋-玻爾茲曼分布函數(shù)/關于電子密度n以及空穴密度p的公式/質(zhì)量作用定律/PN結(jié)的耗盡層寬度/載流子的產(chǎn)生與復合/小信號下的共發(fā)射極電路的電流放大倍數(shù)/帶隙變窄以及少數(shù)載流子遷移率/閾值電壓Vth/關于漏極電流ID飽和的解釋/
寫在前面
日常生活中,從必需的家電產(chǎn)品到汽車,許多現(xiàn)代設備的更新?lián)Q代都是受半導體的發(fā)展所賜。身邊的個人計算機與手機等更是頻繁使用到半導體,相信這一點廣為人知。
學習半導體的原理,了解它的構(gòu)造,對于初學者來說門檻可能略高。想要認真學習的話,甚至還需要量子力學知識。到目前為止,出版了很多半導體方面的書,可是對于初學者來說,合適的書并不多見。
關于本書
如果要學習本書,有高中文化程度的物理學基礎以及簡單的數(shù)學基礎就可以了,并不需要特別的專業(yè)知識。
構(gòu)成大規(guī)模集成電路的器件大部分是MOS晶體管。因此第1章就先說明一下MOS晶體管的概要,為了深入理解,在第2章里介紹能帶圖,第3章里介紹PN結(jié)二極管,在第4章里介紹雙極性晶體管,在第5章里介紹MOS電容器。對特別重要的PN結(jié)二極管以及MOS電容器的能帶圖畫法進行了詳細說明。在第2章中對空穴(hole)密度的求法進行了詳細的解釋說明。第3章使用能帶圖對PN結(jié)二極管的工作原理進行直觀說明。在第4章中,對作為PN結(jié)二極管的自然延伸的雙極性晶體管進行了說明。值得注意的是,理解雙極性晶體管不只是理解其本身,對于理解MOS晶體管的原理也會有所幫助。在第5章出現(xiàn)的MOS電容器可以被視為PN結(jié)二極管中的接合部分中加入了一層絕緣膜而得到的東西。因此,如果會畫PN結(jié)二極管的能帶圖,也應該能立刻畫出MOS電容器的能帶圖。能理解以上這些能帶圖,對于第6章MOS晶體管的工作原理也能直觀理解。在同一章里,對于MOS晶體管的電流電壓特性的物理意義,筆者會使用簡單的式子進一步明確。在第7章中, 對于作為超大規(guī)模集成電路元器件的MOS晶體管,筆者會對其微縮方向縮放比例定律進行說明。然后,對于微縮化的難點MOS晶體管的短溝道效應,CMOS器件的閂鎖效應以及互連線的微縮化造成的信號延遲也會提及。作為延伸,對大規(guī)模集成電路中廣泛使用的閃存技術也會進行概述。
筆者自2001年開始在大學教授半導體元器件相關科目。每年會教70名左右電氣電子情報專業(yè)的學生,到目前為止,在課上也被問了許多問題。本書會提到這些問題并著重于如何讓讀者容易理解這些問題。
通過閱讀本書,讀者應該能畫出PN結(jié)二極管以及MOS電容器的能帶圖。然后從這些能帶圖能進一步直觀地理解半導體元器件的工作原理。在此希望讀者能邊讀邊問為什么。衷心希望這本書能成為讀者理解半導體元器件的契機,成為讀者深入學習的基礎。
關于在授課中使用本書
為了讓讀者在自學自習中也能使用本書,每章的開頭寫有目標提前學習這一章的項目,章末有習題以及解答。
以下是筆者提議的學習計劃。
第1課時:第1章半導體以及MOS晶體管的簡單說明。
第2課時:2.1能帶。
第3課時:2.2費米統(tǒng)計與半導體。
第4課時:2.3電中性條件以及質(zhì)量作用定律。
第5課時:2.4擴散與漂移,2.5靜電場的基本公式。
第6課時:3.1PN結(jié)二極管的結(jié)構(gòu)以及整流作用,3.2~3.3能帶圖。
第7課時:3.4電流電壓特性。
第8課時:第4章雙極性晶體管。
第9課時:5.1MOS電容器的C-V特性。
第10課時:5.2MOS結(jié)構(gòu)的能帶圖,5.3C-V特性的頻率依賴性。
第11課時:6.1MOS晶體管的工作原理。
第12課時:6.2電流電壓特性,6.3NMOS與PMOS。
第13課時:6.4反相器。
第14課時:7.1器件微縮的方向:縮放比例定律,7.2器件微縮的難點。
第15課時:7.3互連線微縮造成的信號延遲,7.4閃存。
其中,如果將第6課時3.1~3.3節(jié)的PN結(jié)二極管的能帶圖作為重點而使用兩次課時學習,則可省略掉第8課時出現(xiàn)的第4章內(nèi)容即雙極性晶體管部分,或者省略掉第15課時的7.3節(jié)和7.4節(jié)的互連線微縮造成的信號延遲以及閃存的內(nèi)容。
致謝
在寫這本書的過程中,得到了來自東芝株式會社多位員工的幫助,筆者想在此表示深深的感謝。
這本書的由來是當時在東芝株式會社內(nèi)部寫書的機會。筆者想對給我這個機會并在之后提供許多幫助的田中真一先生表示感謝。對參與校閱本書的松川尚弘先生、間博顯先生、谷本弘吉先生、堀井秀人先生、遠田利之先生、金箱和范先生、成毛清實先生、遠藤真人先生、竹中康記先生表示感謝。對巖佐知惠女士的支持和幫助表示感謝。
另外想對近代科學社的山口幸治先生、大塚浩昭先生、安原悅子女士表示感謝。
后,想對一直以來安靜地關照著在休息日寫書的筆者的妻子表示感謝。
這本書是基于東芝株式會社面向集團內(nèi)部發(fā)行的《面向初學者的半導體器件》增補改編而來的。
關于增補版
本書自從2017年3月出版發(fā)行以來,被眾多大專院校指定為教科書,贏得了諸多好評,以至重印了3次之多。這次為了更加深入地說明基本的MOS晶體管的電流電壓特性,而發(fā)行了增補版。
增補版的主要變化在于以下兩點:其一,追加了MOS晶體管的漏極電流ID的飽和原因。ID的飽和是非;A的。在增補版中,追加了漏極電流的飽和原因溝道的源端的電場Es飽和了,源端的載流子速度vS變?yōu)槎ㄖ怠F涠,在附錄里添加了從基本專利到實用化花?2年的MOS晶體管。
衷心希望本書能在添加以上增補內(nèi)容后,對更廣大的讀者有所幫助。
執(zhí)行直之,國際電子技術與信息科學工程師學會會士(IEEE Fellow)。
畢業(yè)于日本東北大學的工學研究科情報工學專業(yè),并取得了博士學位(工學)。
1980年進入東芝株式會社,2019年進入鎧俠控股株式會社。
專業(yè)領域為半導體器件的仿真以及器件設計。
主要貢獻為:
研發(fā)了三維器件仿真工具,闡釋并解決了器件微縮過程中的問題。
構(gòu)造了少數(shù)載流子遷移率等物理模型,使得器件仿真工具進一步實用化,對超大規(guī)模集成電路的實現(xiàn)做出了貢獻。
解決了一些靜電放電(ESD)軟件錯誤等相關的問題,對閃存的器件設計做出了貢獻。此外還進行過功率半導體IGBT相關的研究。
合著了《MOS集成電路的基礎》(近代科學社出版)、《半導體制程 器件 仿真技術》(REALIZE出版社出版)等書籍。
自2001年,為神奈川大學工學部兼課講師一職。
自2004年開始的兩年間,曾任東京工業(yè)大學大學院兼課講師一職。
曾任日本東北大學大學院客座教授一職。
自2017年開始的兩年間,曾任東京工業(yè)大學研究員一職。
譯者
婁煜,微電子專業(yè)碩士。曾從事數(shù)字電路評價以及驗證工作。熟悉數(shù)字電路基礎、半導體市場狀況,以及數(shù)字電路細分領域客戶需求。
前言
第1章 半導體以及MOS晶體管的簡單說明/
1.1半導體的歷史/
1.2半導體的概述/
1.3MOS晶體管的概述/
習題/
習題解答/
第2章 半導體的基礎物理/
2.1能帶/
2.1.1電子是粒子還是波/
2.1.2非連續(xù)的能級/
2.1.3能帶(連續(xù)能級)/
2.2費米統(tǒng)計與半導體/
2.2.1費米-狄拉克分布函數(shù)/
2.2.2絕緣體、半導體、金屬的區(qū)別/
2.2.3本征半導體/
2.2.4N型以及P型半導體/
2.3電中性條件以及質(zhì)量作用定律/
2.3.1電中性條件/
2.3.2質(zhì)量作用定律/
2.3.3電子與空穴的密度/
2.4擴散與漂移/
2.4.1擴散電流/
2.4.2漂移電流/
2.4.3電子與空穴的電流密度/
2.5靜電場的基本公式/
2.5.1靜電場的基本公式/
2.5.2電荷密度、電場、電動勢的圖解/
習題/
習題解答/
第3章 PN結(jié)二極管/
3.1PN結(jié)二極管的結(jié)構(gòu)以及整流作用/
3.1.1PN結(jié)二極管的構(gòu)造/
3.1.2整流作用/
3.2能帶圖(接地時)/
3.2.1接合之前的能帶圖/
3.2.2接合之后的能帶圖/
3.2.3能帶圖與電荷密度、電場及電動勢/
3.3能帶圖(施加偏置時)/
3.3.1反向偏置時的能帶圖/
3.3.2正向偏置時的能帶圖/
3.4電流電壓特性/
3.4.1擴散長度/
3.4.2空間電荷區(qū)中的PN積/
3.4.3正向偏置下的電流電壓特性/
3.4.4反向偏置下的電流電壓特性/
習題/
習題解答/
第4章 雙極性晶體管/
4.1雙極性晶體管的能帶圖/
4.1.1雙極性晶體管的結(jié)構(gòu)/
4.1.2能帶圖/
4.2電流放大倍數(shù)與截止頻率/
4.2.1電流放大倍數(shù)/
4.2.2電流放大倍數(shù)的導出/
4.2.3截止頻率/
習題/
習題解答/
第5章 MOS電容器/
5.1MOS電容器的C-V特性/
5.1.1電容的說明/
5.1.2MOS電容器的電容/
5.2MOS結(jié)構(gòu)的能帶圖/
5.2.1能帶圖(接地)/
5.2.2能帶圖(施加柵極電壓的情況)/
5.3C-V特性的頻率依賴性/
5.3.1低頻下的C-V特性/
5.3.2高頻下的C-V特性/
習題/
習題解答/
第6章 MOS晶體管/
6.1MOS晶體管的工作原理/
6.1.1MOS晶體管構(gòu)造/
6.1.2電動勢分布與電子流動/
6.2電流電壓特性/
6.2.1線性區(qū)以及飽和區(qū)/
6.2.2電流電壓特性的簡單公式/
6.2.3考慮漏極電壓VD情況下的漏極電流ID的式子/
6.2.4漏極電流ID飽和的理由/
6.2.5亞閾值區(qū)/
6.3NMOS與PMOS/
6.4反相器/
6.4.1電阻負載型反相器/
6.4.2CMOS反相器/
習題/
習題解答/
第7章 超大規(guī)模集成電路器件/
7.1器件微縮的方向:縮放比例定律/
7.1.1器件微縮化的好處/
7.1.2縮放比例定律/
7.2器件微縮的難點/
7.2.1短溝道效應/
7.2.2CMOS器件的閂鎖效應/
7.3互連線微縮造成的信號延遲/
7.3.1定性的說明/
7.3.2延遲時間的估算/
7.4閃存/
7.4.1存儲器LSI的分類/
7.4.2閃存:數(shù)據(jù)寫入以及擦除/
習題/
習題解答/
附錄/
【附錄1】常量表/
【附錄2】室溫下(300K)的Si基本常量/
【附錄3】從基本專利到實用化花了32年的MOS晶體管/
【附錄4】麥克斯韋-玻爾茲曼分布函數(shù)/
【附錄5】關于電子密度n以及空穴密度p的公式/
【附錄6】質(zhì)量作用定律/
【附錄7】PN結(jié)的耗盡層寬度/
【附錄8】載流子的產(chǎn)生與復合/
【附錄9】小信號下的共發(fā)射極電路的電流放大倍數(shù)/
【附錄10】帶隙變窄以及少數(shù)載流子遷移率/
【附錄11】閾值電壓Vth/
【附錄12】關于漏極電流ID飽和的解釋/