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Zemax光學設計實踐基礎

Zemax光學設計實踐基礎

定  價:42 元

        

  • 作者:施躍春
  • 出版時間:2023/12/1
  • ISBN:9787121466243
  • 出 版 社:電子工業(yè)出版社
  • 中圖法分類:TN202 
  • 頁碼:200
  • 紙張:
  • 版次:01
  • 開本:16開
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讀者對象:本書適合院校光學、物理及電子信息等專業(yè)的大專生與本科生學習,也適合相關專業(yè)的研究生及工程師學習。

本書注重Zemax光學設計實踐,同時為了實踐聯系理論,各章節(jié)先簡單介紹相關理論或背景,然后落實在具體Zemax設計方法上。本書首先給出Zemax光學設計入門操作、優(yōu)化的基本概念、透鏡基本原理與基本優(yōu)化設計、平面系統(tǒng)設計、光束限制設計與多重結構設計、光能計算、像差計算;然后給出像質評價、Zemax優(yōu)化設計方法、面向光通信模塊的4個設計案例和面向成像鏡頭的三片式成像系統(tǒng)及蘋果手機鏡頭設計案例;最后給出超構透鏡與Zemax聯合設計案例。 本書適合院校光學、物理及電子信息等專業(yè)的大專生與本科生學習,也適合相關專業(yè)的研究生及工程師學習。
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