本書(shū)主要內(nèi)容包括偽裝隱身基本概念、偽裝隱身技術(shù)發(fā)展歷史及發(fā)展趨勢(shì)、目標(biāo)與環(huán)境光電特性采集與分析處理技術(shù)、迷彩圖案設(shè)計(jì)技術(shù)、信息偽裝隱身技術(shù)、電磁偽裝技術(shù)、干擾偽裝技術(shù)、示假偽裝技術(shù)、仿生偽裝技術(shù)、外加式偽裝隱身技術(shù)、內(nèi)在式偽裝隱身技術(shù)、自適應(yīng)偽裝隱身技術(shù)、等離子體偽裝隱身技術(shù)、高光譜偽裝隱身技術(shù)等。