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等離子體浸泡式離子注入與沉積技術(shù)

等離子體浸泡式離子注入與沉積技術(shù)

定  價(jià):68 元

        

  • 作者:湯寶寅, 王浪平編著
  • 出版時(shí)間:2012/1/1
  • ISBN:9787118078923
  • 出 版 社:國防工業(yè)出版社
  • 中圖法分類:TB3 
  • 頁碼:239頁
  • 紙張:膠版紙
  • 版次:1
  • 開本:16開
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讀者對象:本書可作為材料科學(xué)與工程相關(guān)專業(yè)本科生和研究生以及從事表面技術(shù)研究、開發(fā)和生產(chǎn)的工程技術(shù)人員的參考書

    《等離子體浸泡式離子注入與沉積技術(shù)》介紹了用于材料表面改性的等離子體浸泡式離子注入與沉積(PⅢD)技術(shù)。主要內(nèi)容包括PHID技術(shù)發(fā)展概況、基礎(chǔ)理論、PⅢD設(shè)備關(guān)鍵部件設(shè)計(jì)、PⅢD鞘層動(dòng)力學(xué)計(jì)算機(jī)理論數(shù)值模擬與應(yīng)用以及機(jī)械零件的PⅢD復(fù)合、批量處理工藝與應(yīng)用等!兜入x子體浸泡式離子注入與沉積技術(shù)》也給出了PⅢD技術(shù)最新進(jìn)展與研究成果。
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