微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)工藝基礎(chǔ)與應(yīng)用
定 價:48 元
- 作者:邱成軍
- 出版時間:2016/2/1
- ISBN:9787560351094
- 出 版 社:哈爾濱工業(yè)大學(xué)出版社
- 中圖法分類:TM38
- 頁碼:301
- 紙張:膠版紙
- 版次:1
- 開本:16K
《微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)工藝基礎(chǔ)與應(yīng)用》著重從基本理論和具體應(yīng)用方面闡述MEMS工藝。主要介紹MEMS的概念、發(fā)展現(xiàn)狀與趨勢及力學(xué)相關(guān)知識;重點闡述MEMS實現(xiàn)工藝,主要有刻蝕(包括各向同性和各向異性刻蝕的原理、實現(xiàn)的方法、以及刻蝕自停止技術(shù)和干法刻蝕),表面微加工工藝的基本原理及其常用材料,硅片鍵合技術(shù)的各種方法、工藝過程及其各自的影響因素,LIGA技術(shù)的基本工藝流程和各部分工藝的實現(xiàn)方法;在工藝基礎(chǔ)上介紹傳感器和執(zhí)行器的基本原理、應(yīng)用范圍及其工藝流程;最后就MEMS在軍事、醫(yī)療、汽車方面的應(yīng)用及對MEMS器件實現(xiàn)檢測的方法加以介紹。全書共分為10章,主要內(nèi)容有:MEMS系統(tǒng)簡介,MEMS相關(guān)力學(xué)基礎(chǔ),體硅加工工藝,表面微加工工藝,硅片鍵合工藝,LIGA技術(shù),MEMS傳感器,MES執(zhí)行器,MEMS的封裝,MEMS的應(yīng)用及檢測技術(shù)。
《微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)工藝基礎(chǔ)與應(yīng)用》適合高等學(xué)校微電子專業(yè)本科生和研究生學(xué)習(xí)MEMS工藝時使用,也可供相關(guān)工程技術(shù)人員參考。
微機(jī)電系統(tǒng)(MicroElectro-MechanicalSystemMEMS)技術(shù)是一門多學(xué)科交叉的學(xué)科,涉及物理、化學(xué)、力學(xué)、電子學(xué)、光學(xué)、材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)和控制工程等多個技術(shù)學(xué)科。與宏觀系統(tǒng)相比,MEMS系統(tǒng)能夠大批生產(chǎn),成本低,性能高,甚至能夠?qū)崿F(xiàn)宏觀所無法實現(xiàn)的功能,因此已經(jīng)廣泛應(yīng)用于儀器測量、無線和光通信、能源環(huán)境、軍事國防、航空航天、生物醫(yī)學(xué)、汽車電子以及消費(fèi)電子等多個領(lǐng)域。已經(jīng)并會繼續(xù)對人類的科學(xué)技術(shù)和工業(yè)生產(chǎn)產(chǎn)生深遠(yuǎn)的影響。
本書著重從基本理論和具體應(yīng)用方面介紹MEMS工藝,適合于微電子專業(yè)本科生和研究生學(xué)習(xí)MEMS工藝時使用。
本書共分為10章,主要內(nèi)容有:第1章MEMS系統(tǒng)簡介。介紹了MEMS的概念、特點、研究領(lǐng)域、發(fā)展現(xiàn)狀及其未來的發(fā)展趨勢。第2章MEMS相關(guān)力學(xué)基礎(chǔ)。主要介紹了應(yīng)力和應(yīng)變、簡單負(fù)載下梁的彎曲、扭轉(zhuǎn)變形以及動態(tài)系統(tǒng)諧振特點等一系列的力學(xué)相關(guān)知識。第3章體硅加工工藝。重點介紹各向同性和各向異性刻蝕的原理、實現(xiàn)的方法,還包括刻蝕自停止技術(shù)和干法刻蝕。第4章表面微加工工藝。介紹了表面微加工工藝的基本原理、用于表面微加工技術(shù)的常用材料,并比較了體硅加工工藝和表面微加工工藝。第5章硅片鍵合工藝。主要介紹了硅片鍵合技術(shù)的各種方法、工藝過程及其各自的影響因素。第6章LIGA技術(shù)。介紹了LIGA技術(shù)的基本工藝流程和各部分工藝的實現(xiàn)方法,并介紹了LIGA技術(shù)的擴(kuò)展,另外還簡單介紹了一些其他的微細(xì)加工技術(shù)。第7章MEMS傳感器。主要介紹了物理、化學(xué)和生物傳感器的基本原理、應(yīng)用范圍和一些工藝流程。第8章MEMS執(zhí)行器。重點介紹了制作MEMS執(zhí)行器的材料,MEMS電動機(jī)、微閥、微泵等一些執(zhí)行器的基本原理和各自特點。第9章MEMS的封裝。介紹了鍵合方法、實現(xiàn)過程和各自的影響因素。第10章MEMS的應(yīng)用及檢測技術(shù)。主要介紹了MEMS在軍事、醫(yī)療、汽車方面的應(yīng)用,及對MEMS器件實現(xiàn)檢測的各種方法。
第1章 MEMS系統(tǒng)簡介
1.1 MEMS的基本概念及特點
1.2 MEMS的研究領(lǐng)域
1.3 MEMS的發(fā)展現(xiàn)狀與發(fā)展趨勢
第2章 MEMS相關(guān)力學(xué)基礎(chǔ)
2.1 應(yīng)力與應(yīng)變
2.2 簡單負(fù)載條件下?lián)闲粤旱膹澢?br />
2.3 扭轉(zhuǎn)變形
2.4 本征應(yīng)力
2.5 動態(tài)系統(tǒng)、諧振頻率和品質(zhì)因數(shù)
2.6 彈簧常數(shù)和諧振頻率的調(diào)節(jié)
第3章 體硅加工工藝
3.1 濕法刻蝕
3.2 刻蝕自停止技術(shù)
3.3 干法刻蝕
3.4 SCREAM工藝
第4章 表面微加工工藝
4.1 表面微加工基本原理
4.2 多晶硅的表面微加工
4.3 SOI表面微加工
4.4 光刻膠表面微加工
4.5 表面微加工中的力學(xué)問題
4.6 體硅加工技術(shù)與表面微加工技術(shù)
4.7 HARPSS工藝
4.8 Hexsil工藝
第5章 硅片鍵合工藝
5.1 陽極鍵合
5.2 硅熔融鍵合
5.3 黏合劑鍵合
5.4 共晶鍵合
5.5 BDRIE工藝
5.6 硅片溶解法
第6章 LIGA技術(shù)
6.1 UGA基本工藝流程
6.2 制作技術(shù)
6.3 LIGA技術(shù)的擴(kuò)展
6.4 EFAB技術(shù)
6.5 其他微加工技術(shù)
第7章 MEMS傳感器
7.1 MEMS物理傳感器
7.2 MEMS化學(xué)量傳感器
7.3 MEMS生物量傳感器
第8章 MEMS執(zhí)行器
8.1 MEMS執(zhí)行器的材料
8.2 MEMS電動機(jī)
8.3 微泵與微閥
8.4 微閥
8.5 微行星齒輪減速器
第9章 MEMS的封裝
9.1 MEMS的封裝材料
9.2 MEMS的封裝工藝
第10章 MEMS的應(yīng)用及檢測技術(shù)
10.1 MEMS應(yīng)用
10.2 MEMS的檢測
參考文獻(xiàn)