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本書主要針對可見光、紅外和太赫茲等譜域的折射與衍射微光學(xué)結(jié)構(gòu)，開展新的設(shè)計、工藝制作和測試評估方法的研究。重點論述了以折射和衍射微光學(xué)積分變換為基礎(chǔ)，有效出射可見光、紅外及太赫茲多譜圖像與波前的基礎(chǔ)理論和基本方法，建立了基于衍射相位精細構(gòu)建在設(shè)計、仿真、工藝、測試與評估等方面的數(shù)據(jù)和方法體系。

本書總結(jié)了作者及其研究團隊過去10余年，針對可見光、紅外以及太赫茲等譜域的折射和衍射微光學(xué)結(jié)構(gòu)，開展新的設(shè)計和工藝制作方法方面的研究工作。重點論述了以折射和衍射微光學(xué)積分□換為基礎(chǔ)的，能有效出射可見光、紅外及太赫茲譜域的多譜光學(xué)強度圖像與波前的基礎(chǔ)理論和基本方法；建立了微光學(xué)圖像和波前結(jié)構(gòu)的設(shè)計、仿真、工藝、性能測試與評估等的有效手段和數(shù)據(jù)體系：獲取了多項關(guān)鍵性的參數(shù)指標(biāo)。通過對光學(xué)強度圖像和波前在對比度、亮度、灰度、頻譜和□動特征等方面的快速（實時）調(diào)控，實現(xiàn)了逼真出射層次豐富、細節(jié)清晰完整、圖像參量易于控制、生成區(qū)域大、作用距離遠、衍射效率和能量集中度較高的強度圖像與波前。其主要研究工作如下：①建立了以折射和衍射微光學(xué)積分□換為基礎(chǔ)、以微納米特征尺寸微光學(xué)結(jié)構(gòu)為執(zhí)行結(jié)構(gòu)的，能出射可見光、紅外及太赫茲譜域的多譜圖像與復(fù)雜波前的基礎(chǔ)理論；②獲得了微納衍射相位結(jié)構(gòu)的基本設(shè)計方法、制作工藝流程、關(guān)鍵參數(shù)以及圖像出射效能的測試和評估方法；③在圖像和波前仿真、光電對抗、與多種光學(xué)光電功能結(jié)構(gòu)（包括CCD和CMOS光敏芯片）、與光電存儲光學(xué)頭匹配的折射和衍射物鏡研制，以及太赫茲圖形、圖像和波前的生成與發(fā)射方面所獲得的突破。
　　本書共8章：□□章綜述了所采用的基礎(chǔ)衍射積分□換理論；第□章討論了基于單步光刻和KOH濕法刻蝕工藝制作衍射微光學(xué)結(jié)構(gòu)的基本方法；第3章討論了將單步光刻和KOH濕法刻蝕工藝用于發(fā)展微光學(xué)波前結(jié)構(gòu)的基本問題；第4章詳細討論了將所發(fā)展的衍射微光學(xué)結(jié)構(gòu)用于相干激光束的衍射整形與頻譜空間分離等方面的基本問題；第5章主要討論了衍射微光學(xué)結(jié)構(gòu)的工藝制作、測試與性能評估問題；第6章討論了將所發(fā)展的微光學(xué)結(jié)構(gòu)的設(shè)計、制作、測試與評估方法，向太赫茲頻域延伸所涉及的基本問題；第7章主要討論了所發(fā)展的基本方法在特殊的紅外和太赫茲波前結(jié)構(gòu)應(yīng)用方面的關(guān)鍵問題與特征；第8章主要開展了硅基非球面光學(xué)折射結(jié)構(gòu)方面的基礎(chǔ)問題研究。

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