目錄
前言
第一章 現(xiàn)代光學(xué)測(cè)試技術(shù)綜述 1
第一節(jié) 研究領(lǐng)域及技術(shù)特征 1
第二節(jié) 現(xiàn)代光學(xué)測(cè)試技術(shù)的現(xiàn)狀與應(yīng)用 4
第三節(jié) 光學(xué)測(cè)試方法的選取原則 12
第四節(jié) 現(xiàn)代光學(xué)測(cè)試技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì) 14
參考文獻(xiàn) 15
第二章 光具座上的綜合檢測(cè) 16
第一節(jié) 測(cè)量中的對(duì)準(zhǔn)技術(shù)與調(diào)焦技術(shù) 16
第二節(jié) 光學(xué)測(cè)試裝置的基本部件及其組合 28
第三節(jié) 焦距和頂焦距的測(cè)量 36
參考文獻(xiàn) 43
第三章 光學(xué)材料測(cè)試 44
第一節(jié) 光學(xué)玻璃材料概述 44
第二節(jié) 光學(xué)玻璃折射率測(cè)量 54
第三節(jié) 光學(xué)玻璃光學(xué)均勻性測(cè)量 71
第四節(jié) 光學(xué)玻璃應(yīng)力雙折射測(cè)量 77
參考文獻(xiàn) 84
第四章 基本的光干涉測(cè)量技術(shù) 85
第一節(jié) 干涉條紋的分析判讀及波面質(zhì)量評(píng)價(jià) 86
第二節(jié) 幾種典型的干涉儀 98
第三節(jié) 波面錯(cuò)位干涉測(cè)量 106
第四節(jié) 干涉圖分析與波面擬合 115
第五節(jié) 波像差及其測(cè)量 129
參考文獻(xiàn) 139
第五章 光電相位測(cè)量技術(shù) 140
第一節(jié) 相位的靜態(tài)測(cè)試技術(shù) 141
第二節(jié) 相位的動(dòng)態(tài)測(cè)試技術(shù) 163
參考文獻(xiàn) 185
第六章 平面元件測(cè)試技術(shù) 186
第一節(jié) 平面元件基本量測(cè)量 186
第三節(jié) 平面光學(xué)元件面形偏差檢測(cè) 205
第三節(jié) 平面光學(xué)元件光學(xué)平行度測(cè)量 215
參考文獻(xiàn) 228
第七章 球面元件測(cè)試技術(shù) 229
第一節(jié) 球面曲率半徑測(cè)量 229
第二節(jié) 球面光學(xué)元件面形偏差檢測(cè) 245
參考文獻(xiàn) 252
第八章 非球面測(cè)試技術(shù) 253
第一節(jié) 非球面的基本知識(shí) 253
第二節(jié) 非球面面形測(cè)試方法 254
參考文獻(xiàn) 268
第九章 干涉測(cè)長(zhǎng)技術(shù) 270
第一節(jié) 高精度量塊測(cè)量技術(shù) 270
第二節(jié) 激光干涉測(cè)長(zhǎng) 284
參考文獻(xiàn) 295
第十章 莫爾條紋技術(shù) 296
第一節(jié) 莫爾條紋形成原理 296
第二節(jié) 莫爾條紋測(cè)量技術(shù) 302
參考文獻(xiàn) 309
第十一章 光學(xué)系統(tǒng)評(píng)價(jià) 310
第一節(jié) 光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量評(píng)價(jià)方法概述 310
第三節(jié) 分辨率測(cè)試 311
第三節(jié) 成像質(zhì)量評(píng)價(jià)的星點(diǎn)檢驗(yàn)法 315
第四節(jié) 光學(xué)傳遞函數(shù) 318
第五節(jié) 干涉測(cè)量 328
參考文獻(xiàn) 335